11月25日消息，有投資者向南大光電提問稱,，公司 ARF 光刻膠驗證的怎么樣啦,，什么時候會實現(xiàn)量產(chǎn)？對此,，南大光電回應(yīng),，公司 ArF 光刻膠產(chǎn)品分別通過一家存儲芯片制造企業(yè)和一家邏輯芯片制造企業(yè)的驗證，目前多款產(chǎn)品正在多家客戶同時進行認證,，后續(xù)驗證進展情況請關(guān)注公司相關(guān)信息披露,。

南大光電表示，目前公司有多款A(yù)rF光刻產(chǎn)品在國內(nèi)大型芯片制造企業(yè)進行測試,。光刻膠是客制化產(chǎn)品,，技術(shù)含量高,，驗證周期長，且體量不大,。因為是替代進口,，所以我們研發(fā)的產(chǎn)品需要適應(yīng)客戶端的工藝參數(shù)，留給我們的調(diào)整空間很小,，所以驗證難度大,。目前驗證進展順利，預(yù)計今年年底會有幾款產(chǎn)品通過驗證,。公司也將抓緊推進市場拓展工作,，爭取盡快實現(xiàn)批量銷售。

據(jù)了解,，早在2016年,，南大光電參股了北京科華微電子材料有限公司，便開始了研發(fā)“193nm光刻膠項目”,，并且該公司是唯一一家通過了EUV光刻膠“02專項”研發(fā)的企業(yè),。彼時，南大光電便宣稱,，計劃用3年的時間實現(xiàn)ArF光刻膠產(chǎn)品的建設(shè),、投產(chǎn)和銷售，最終達到年產(chǎn)25噸193nm ArF光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模,。

國產(chǎn)光刻膠任重而道遠

資料顯示,，南大光電此次通過客戶認證的ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于90nm～14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點的集成電路制造工藝,。廣泛應(yīng)用于高端芯片制造,，包括邏輯芯片、AI芯片,、5G芯片,、大容量存儲器和云計算芯片等。

眾所周知,，自去年以來,，全球芯片供應(yīng)緊缺持續(xù)，各大晶圓廠積極擴張產(chǎn)能,，上游半導(dǎo)體耗材光刻膠等材料需求巨大,，如今南大光電ArF光刻膠再次通過企業(yè)認證，量產(chǎn)化有望,，將很大程度緩解光刻膠產(chǎn)能緊缺的窘境,。

光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造行業(yè)的重要關(guān)鍵原材料，在半導(dǎo)體集成電路材料中技術(shù)難度最大,，質(zhì)量要求最高,，主要應(yīng)用于芯片制造的光刻工藝,，而光刻工藝又是半導(dǎo)體芯片最為核心的工藝，占整個芯片制造成本的35％,，光刻膠通過利用光化學(xué)反應(yīng)原理,，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序,，將所需要的圖像留存,，并轉(zhuǎn)移到待加工的晶圓片上，從而完成光刻,。

在半導(dǎo)體領(lǐng)域,，光刻膠產(chǎn)品主要分為紫外光刻膠g線（436nm）和i線（365nm）,，深紫外光刻膠KrF（248nm）,、ArF（193nm），以及目前最先進的,，可以應(yīng)用于EUV技術(shù)的極紫外光刻膠（13．5nm）,。

一直以來，國內(nèi)的光刻膠市場被日美等外資企業(yè)長期壟斷,，國內(nèi)光刻膠企業(yè)僅有少量的低端g線,、i線以及KrF線光刻膠可實現(xiàn)量產(chǎn)，自給率不到20％,，目前國內(nèi)更為高端的ArF光刻膠產(chǎn)品仍未實現(xiàn)量產(chǎn),。

根據(jù)公開資料顯示，目前整個光刻膠產(chǎn)品的市場里,，日美企業(yè)占據(jù)了87％的市場份額,，其中日企JSR株式會社在全球先進的ArF、EUV市場具有較為領(lǐng)先的地位,，是全球光刻膠龍頭廠商,，占有28％的市場份額，其他主要廠商包括日本的東京應(yīng)化,、富士電子,、信越化學(xué)、美國的陶氏杜邦等,，具體占比如下圖所示：

（數(shù)據(jù)源于TC VIEW,，OFweek維科網(wǎng)·電子工程制圖）

在高端光刻膠產(chǎn)品領(lǐng)域，日本廠商在ArF,、KrF光刻膠市場的市占率分別為93％,、80％，幾乎完全壟斷了整個高端市場,，并且日企JSR及東京應(yīng)化已經(jīng)可以供應(yīng)10nm以下半導(dǎo)體芯片制造行業(yè)的EUV極紫外光刻膠,。

如今,，全球的光刻膠市場仍在穩(wěn)定增長中，知名咨詢服務(wù)公司TECHCET曾預(yù)測,，2021年半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11％,，達到19億美元。在2020年和2021年的光刻膠市場中,，KrF和浸入式ArF的市場份額占比較高,。對于EUV光刻膠市場，應(yīng)用范圍正在從邏輯芯片擴展到DRAM,。2021年的EUV光刻膠市場將超過2000萬美元,，并且此后還將繼續(xù)增長，預(yù)計到2025年將超過2億美元,。

國內(nèi)對于光刻膠領(lǐng)域也尤為重視,。在2020年9月，國家發(fā)改委等四部門聯(lián)合印發(fā)《關(guān)于擴大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資 壯大新增長點增長極的指導(dǎo)意見》提出,，加快在光刻膠,、高純靶材、高溫合金,、高性能纖維材料,、高強高導(dǎo)耐熱材料、耐腐蝕材料,、大尺寸硅片,、電子封裝材料等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破，以保障大飛機,、微電子制造,、深海采礦等重點領(lǐng)域產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定。

同時,，在去年年初,，央視新聞更是發(fā)表了“光刻膠靠搶！進口芯片漲價20％”的報道,；報道指出,，在我國半導(dǎo)體工業(yè)中，下游設(shè)計已經(jīng)能夠進入全球第一梯隊,，中游晶圓制造也在迎頭趕上,，而上游設(shè)備及材料領(lǐng)域與海外龍頭仍存在較大差距。中國本土光刻膠整體技術(shù)水平與國際先進水平存在較大差距,，自給率僅約10％,，且主要集中在技術(shù)含量較低的PCB光刻膠領(lǐng)域。

以往企業(yè)采購光刻膠的量每次都在100多公斤,，近期由于原材料緊缺,，企業(yè)每次只能買到很少的量（10－20公斤）,。一旦全球芯片短缺引發(fā)上游芯片材料供應(yīng)緊張，光刻膠難以進口,，國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)將會出現(xiàn)“無膠可用”的情況,。

截止目前，國內(nèi)的多個光刻膠企業(yè)中,，只有彤程新材旗下的子公司北京科華能實現(xiàn)量產(chǎn)KrF光刻膠,，且是唯一被SEMI列入全球光刻膠八強的中國光刻膠公司。

此外,，南大光電是研發(fā)出全國第一只通過產(chǎn)品認證的國產(chǎn)ArF光刻膠的半導(dǎo)體上市企業(yè),。

在今年半年報中，南大光電披露,，193nm光刻膠作為當前高端芯片制造中最為核心的原材料,，被譽為半導(dǎo)體工業(yè)的“血液”，可以用于90nm～14nm技術(shù)節(jié)點的集成電路制造工藝,。

截至今年6月底,，公司安裝完成一條193nm光刻膠生產(chǎn)線，用于產(chǎn)品檢測的光刻機也已完成安裝,，產(chǎn)線和光刻機均處于調(diào)試階段。

上述項目投資6．56億元,，根據(jù)規(guī)劃,，南大光電將達到年產(chǎn)25噸193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模，以滿足集成電路行業(yè)的需求,。

市場認為,，ArF光刻膠的市場前景好于預(yù)期。隨著國內(nèi)IC行業(yè)的快速發(fā)展,，自主創(chuàng)新和國產(chǎn)化步伐的加快,，以及先進制程工藝的應(yīng)用，將大大拉動光刻膠的用量,。

南大光電表示,，目前與客戶的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中。同時,，ArF光刻膠的復(fù)雜性決定了其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風險,，其在應(yīng)用工藝的改進、完善等方面的表現(xiàn),，都會決定ArF光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟效益,。

可以看出，在半導(dǎo)體原材料領(lǐng)域,，國產(chǎn)替代化進程正有序進行中,，未來實現(xiàn)半導(dǎo)體領(lǐng)域全面自主可控,，指日可待。

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