在半導(dǎo)體制造方面，國內(nèi)廠商需要突破的不只是光刻機等核心設(shè)備,，光刻膠也是重要的一環(huán),。而南大光電研發(fā)的高端ArF光刻機,，已經(jīng)獲得了國內(nèi)某企業(yè)的認證，可用于55nm工藝制造,。

　　5月31日晚間,，南大光電發(fā)布公告稱，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺上通過認證后,，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點的產(chǎn)品上取得了認證突破,，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求。

　　不過,，南大光電并未透露具體的客戶名字,。

　　（圖片源自南大光電官網(wǎng)）

　　在光刻機市場上,，國內(nèi)自給率極低,，歐美日等地區(qū)的廠商占據(jù)主要份額，JSR、信越化學(xué)等TOP5廠商占據(jù)全球87%的份額,。

　　要知道,，光刻膠有不同的技術(shù)類別，低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%,，KrF光刻膠自給率不足5%,，而高端的ArF光刻膠完全依賴進口，是國內(nèi)半導(dǎo)體的卡脖子技術(shù)之一,。

　　雖然南大光電的ArF光刻膠現(xiàn)在通過的是55nm工藝認證,，但ArF光刻膠涵蓋的工藝技術(shù)很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm 技術(shù)節(jié)點制造工藝,，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片,、 存儲芯片、AI 芯片,、5G 芯片和云計算芯片等）,。