4月14日，南大光電在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)表示,，公司研發(fā)的ArF光刻膠主要定位于90nm－28nm集成電路的制程應(yīng)用,，公司ArF光刻膠產(chǎn)品分別通過(guò)一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)和一家邏輯芯片制造企業(yè)的驗(yàn)證，目前多款產(chǎn)品正在多家客戶同時(shí)進(jìn)行認(rèn)證,。

南大光電表示,，目前公司有多款A(yù)rF光刻產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)大型芯片制造企業(yè)進(jìn)行測(cè)試。光刻膠是客制化產(chǎn)品,，技術(shù)含量高,，驗(yàn)證周期長(zhǎng)，且體量不大,。因?yàn)槭翘娲M(jìn)口,，所以我們研發(fā)的產(chǎn)品需要適應(yīng)客戶端的工藝參數(shù)，留給我們的調(diào)整空間很小,，所以驗(yàn)證難度大,。目前驗(yàn)證進(jìn)展順利，預(yù)計(jì)今年年底會(huì)有幾款產(chǎn)品通過(guò)驗(yàn)證,。公司也將抓緊推進(jìn)市場(chǎng)拓展工作,，爭(zhēng)取盡快實(shí)現(xiàn)批量銷售。

據(jù)了解,，早在2016年,，南大光電參股了北京科華微電子材料有限公司，便開始了研發(fā)“193nm光刻膠項(xiàng)目”,，并且該公司是唯一一家通過(guò)了EUV光刻膠“02專項(xiàng)”研發(fā)的企業(yè),。彼時(shí)，南大光電便宣稱,，計(jì)劃用3年的時(shí)間實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠產(chǎn)品的建設(shè),、投產(chǎn)和銷售，最終達(dá)到年產(chǎn)25噸193nm ArF光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模,。

此外,，有投資者問(wèn)到，公司三大主線產(chǎn)品MO源,，特氣和ARF光刻膠,，在國(guó)內(nèi)的市場(chǎng)容量分別有多大？公司這三大產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的占比分別是多少,？公司未來(lái)能拓展的三大產(chǎn)品市場(chǎng)容量分別有多大空間,？

南大光電表示,，公司各類產(chǎn)品市場(chǎng)占有率如下：MO源：國(guó)內(nèi)約40％；前驅(qū)體：國(guó)內(nèi)約8％,；氫類電子特氣：國(guó)內(nèi)約60％,；氟類電子特氣：三氟化氮國(guó)內(nèi)市占率約為35％，國(guó)外市占率約為10％,；六氟化硫主要在國(guó)內(nèi)銷售,，市占率約為20％。

同時(shí),，南大光電還在努力實(shí)施MO源2．0計(jì)劃，通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新不斷優(yōu)化產(chǎn)品和客戶結(jié)構(gòu),，先進(jìn)前驅(qū)體材料如28nm和14nm制程前驅(qū)體,、硅前驅(qū)體等產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化取得重要突破；氫類電子特氣在技術(shù),、品質(zhì),、產(chǎn)能和銷售各方面已躍居世界前列；氟類電子特氣方面公司加快烏蘭察布“試驗(yàn)田”建設(shè),，為建設(shè)“世界單項(xiàng)冠軍”產(chǎn)品奠定堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ),。