6月1日,，南大光電發(fā)布公告稱,，公司控股子公司寧波南大光電材料有限公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品繼2020年12月在一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺(tái)上通過認(rèn)證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得了認(rèn)證突破,。

　　認(rèn)證評(píng)估結(jié)果顯示,，本次認(rèn)證系選擇客戶55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)邏輯芯片產(chǎn)品的工藝進(jìn)行驗(yàn)證，寧波南大光電研發(fā)的ArF光刻膠的測(cè)試良率結(jié)果符合要求,，表明其具備55nm平臺(tái)后段金屬布線層的工藝要求,。

　　據(jù)披露，ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料,，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝,。廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片,、AI芯片,、5G芯片和云計(jì)算芯片等）。

　　ArF光刻膠的市場(chǎng)前景好于預(yù)期,。隨著國(guó)內(nèi)IC行業(yè)的快速發(fā)展,，自主創(chuàng)新和國(guó)產(chǎn)化步伐的加快，以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用,，將大大拉動(dòng)光刻膠的用量,。

　　南大光電指出,，ArF光刻膠產(chǎn)品與本次認(rèn)證通過的客戶之間的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中。ArF光刻膠的復(fù)雜性決定了其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險(xiǎn),，不僅需要技術(shù)攻關(guān),，還需要在應(yīng)用中進(jìn)行工藝的改進(jìn)、完善,，這些都會(huì)決定ArF光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟(jì)效益,。