眾所周知,，在芯片制造過(guò)程中,，最重要的半導(dǎo)體設(shè)備就是光刻機(jī)。為什么說(shuō)他最重要，一方面是因?yàn)樗妓兄圃煸O(shè)備成本的22％左右，同時(shí)也占工時(shí)的20％左右,。

另外一方面是全球僅有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，而EUV光刻機(jī)是進(jìn)入到10nm以下工工藝的必備品,，所以找ASML買到EUV光刻機(jī),，是每家芯片制造廠商必須要干的事。

目前ASML已經(jīng)推出了三代EUV光刻機(jī),，分別是TWINSCAN NXE：3400B ,、NXE：3400C、NXE：3600D,。這三代EUV光刻機(jī)的數(shù)值孔徑為0．33,，理論上能夠生產(chǎn)的芯片精度，最多在2nm左右,。

所以一旦進(jìn)入到2nm以下，也就是埃米（1埃米＝0．1納米）時(shí),，那么ASML還得研發(fā)更高精度的光刻機(jī)才行,。而更高精度的光刻機(jī)，稱之為High NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī),。

事實(shí)上,，ASML也早就有準(zhǔn)備了，ASML下一代高精度的EUV光刻機(jī)型號(hào)叫做EXE：5000,，數(shù)值孔徑為0．55,，可用于2nm以下的芯片制造，比如1．4nm（14埃米）,、1nm（10埃米）等工藝,。

在2020年底的時(shí)候，就有媒體報(bào)道,，ASML其實(shí)已經(jīng)基本研發(fā)完成,，正在開(kāi)始試產(chǎn)，預(yù)計(jì)到2022年就會(huì)商用,。而近日imec正式表示,，ASML的EXE：5000光刻機(jī)，會(huì)在2022年－2023年提供,。

但晶圓廠商基于這臺(tái)光刻機(jī),，生產(chǎn)nm以上的芯片,，至少要到2025年之后，其認(rèn)為的工藝路徑進(jìn)程是2025對(duì)應(yīng)A14（14?＝1．4納米）,，2027年為A10（10?＝1nm）,、2029年為A7（7?＝0．7納米）。

此外,，行業(yè)分析師Alan Priestley則表示,，ASML的0．55NA光刻機(jī)（NXE：5000）的價(jià)格會(huì)高達(dá)3億美元（約合20億元），是當(dāng)前0．33NA光刻機(jī)的兩倍,。

想必接下來(lái),，各大晶圓代工廠們，特別是臺(tái)積電,、三星,、intel又要搶光刻機(jī)忙了，畢竟全球僅ASML能夠生產(chǎn),，誰(shuí)能提前買到0．55NA光刻機(jī),，也就相當(dāng)于拿到了進(jìn)入埃米級(jí)工藝的門票，就能取得先機(jī),。