4月14日消息,，Intel前任CEO帕特·基辛格已經(jīng)找到了新工作,！本人親自宣布,，已經(jīng)加盟xLight擔任執(zhí)行董事長,。

xLight是一家半導體行業(yè)創(chuàng)業(yè)公司，主要業(yè)務室面向EUV極紫外光刻機,，開發(fā)基于直線電子加速器的自由電子激光(FEL)技術光源系統(tǒng),，可顯著降低成本,。

目前的ASML EUV光刻機使用的是激光等離子體EUV光源(LPP),，依賴超高功率的高能激光脈沖,，因此整個系統(tǒng)極為龐大、復雜,，而產(chǎn)生的EUV光源功率有限,，這也是其成本,、價格高昂的核心原因,，單價超過1.5億美元。

因此,，美國,、中國、日本等都在積極研究替代方案，F(xiàn)EL自由電子激光器就是廣為看好的EUV光源,，包括振蕩器,、自放大自發(fā)輻射兩大技術路線。

它可以產(chǎn)生超過10kW功率的EVU光源功率,，可同時滿足10臺光刻機的需要,，而且不會產(chǎn)生錫滴碎片而污染環(huán)境。

其實,，ASML早在十年前就考慮過FEL EUV光源路線,，但最終認為風險偏高，而走向了LPP EUV光源,。

有關研究顯示,，10kW功率的FEL EUV光源的建設成本約為4億美元，每年運營成本4000萬美元,。

相比之下,，250W功率的LPP EUV光源的建設成本約為2000萬美元，每年運營成本1500萬美元,。

算下來,，EFL路線的建設成本只有LPP路線的1/2，運營成本更是1/15,，綜合成本約為1/3,。

基辛格加盟的xLight公司，正在研發(fā)基于ERL(能量回收直線加速器)的FEL EUV光源系統(tǒng),，可提供1000W的功率,，四倍于ASML，從而將單塊晶圓光刻成本降低約50％,，而且單個光源系統(tǒng)就能支持20臺光刻機,，壽命也長達30年。

xLight FEL EUV光源系統(tǒng)的另一個好處,，就是兼容現(xiàn)有的ASML EUV光刻機,，可以直接整合，預計2028年可接入ASML光刻機,，并開始生產(chǎn)晶圓,。

xLight公司規(guī)模不大，但是團隊在光刻和加速器領域擁有豐富經(jīng)驗,，包括來自斯坦福直線加速器等的資深研究人士,，首席科學家Gennady Stupakov博士曾在去年拿到IEEE核能和等離子體科學學會粒子加速器科學技術獎。