眾所周知，目前全球最牛的光刻機(jī)廠(chǎng)商就是荷蘭的ASML了,，全世界僅有它一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī),，而EUV光刻機(jī)是10nm以下芯片制造中必不可少的設(shè)備。

可以說(shuō)ASML緊緊的扼住了全球芯片制造企業(yè)的喉嚨,，只要它不賣(mài)EUV光刻機(jī)給對(duì)方,，對(duì)方的工藝就只能停留在10nm以上。

事實(shí)上，在20年前,，ASML其實(shí)是一家名不見(jiàn)真?zhèn)鞯男∑髽I(yè),，和日本的尼康、佳能比起來(lái),，真的就是個(gè)小作坊,，那么為何最終是它勝出，一家獨(dú)大,，然后讓尼康,、佳能變成了二流光刻機(jī)企業(yè)了呢？

事實(shí)上,，這與ASML成長(zhǎng)過(guò)程中的兩個(gè)轉(zhuǎn)折點(diǎn)有關(guān),，也正是抓住了這機(jī)會(huì)，在這兩次轉(zhuǎn)折點(diǎn)中,，都站對(duì)了位置,，才有今天的ASML。

第一次是2004年左右,，當(dāng)時(shí)業(yè)界采用的光刻機(jī)光源是193nm波長(zhǎng)的,，采用的是干刻法，接下來(lái)要提升光源到157nm波長(zhǎng),，這樣精度更高,，但困難非常大,。

這時(shí)候臺(tái)積電表示,，光源還可以使用193nm波長(zhǎng)的，但換個(gè)介質(zhì)試試,，不要用空氣當(dāng)介質(zhì)了,，用水當(dāng)介質(zhì)，而光源在通過(guò)水時(shí),，會(huì)產(chǎn)生折射,，這樣193nm波長(zhǎng)的光源，實(shí)際效果可能比157nm的波長(zhǎng)還要好呢,？

尼康,、佳能認(rèn)為這不實(shí)際，不如研究157nm光刻機(jī)好了,，而ASML覺(jué)得自己反正就是小企業(yè),，不如陪臺(tái)積電試一下，萬(wàn)一成功了呢,？

于是ASML成功了,，采用水當(dāng)介質(zhì)的浸潤(rùn)式光刻機(jī)火了，成功的把精度再提高了,，且成本低,，研發(fā)快,，僅僅5年時(shí)間，ASML就拿下了全球一半多的市場(chǎng),，后來(lái)尼康,、佳能想要跟進(jìn)，已經(jīng)遲了,。

第二次機(jī)會(huì)是2015年,，當(dāng)時(shí)浸潤(rùn)式光刻機(jī)已經(jīng)發(fā)展到極限了，接下來(lái)研究的方向采用波長(zhǎng)為13．5nm的極紫外線(xiàn),，制造EUV光刻機(jī),。

并且這時(shí)候，英特爾牽頭搞了一個(gè)前沿組織EUV LLC,，就是研究這些的,，于是ASML加入了進(jìn)來(lái)，并且ASML很聰明,，覺(jué)得如果自己搞出這樣的光刻機(jī),，可能會(huì)被美國(guó)忌憚，于是讓出了自己的股份,，讓英特爾,、臺(tái)積電、三星等都成為自己的股東,。

這樣不僅打消了美國(guó)的在顧慮,，還贏得了客戶(hù)、盟友,，也得到了眾多的技術(shù)支持,，于是順利的推出了EUV系列光刻機(jī)，還不愁賣(mài),，也不怕美國(guó)制裁它,，如今ASML是真的在EUV光刻機(jī)上一家獨(dú)大，真正的壟斷市場(chǎng)了,。