《電子技術(shù)應(yīng)用》
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淺析HBM五大關(guān)鍵門(mén)檻

2024-06-18
來(lái)源:芯智訊
關(guān)鍵詞: HBM SK海力士 美光 三星

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6月17日消息,,在當(dāng)前人工智能(AI)芯片中扮演不可或缺地位的高帶寬內(nèi)存(HBM),其生產(chǎn)困難點(diǎn)有哪些,為什么迄今全球只有SK海力士美光三星這三家DRAM大廠有能力跨入該市場(chǎng),外媒對(duì)此做了一個(gè)綜合性的分析。

報(bào)道表示,HBM通過(guò)使用3D堆疊技術(shù),,將多個(gè)DRAM(動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存)芯片堆疊在一起,并通過(guò)硅穿孔技術(shù)(TSV,,Through-Silicon Via)進(jìn)行連接,,進(jìn)一步達(dá)到高帶寬和低功耗的特點(diǎn)。HBM的應(yīng)用中,,CowoS(Chip on Wafer on Substrate)封裝技術(shù)是其中一個(gè)關(guān)鍵的生產(chǎn)手段,。

CowoS封裝中的HBM技術(shù)困難度目前歸納了幾項(xiàng)要點(diǎn):

1、3D堆疊及TSV技術(shù)的挑戰(zhàn)

在堆疊精度部分,,在HBM中,,多個(gè)DRAM芯片需要高度精準(zhǔn)的堆疊在一起。這需要極高的制造技術(shù)水準(zhǔn),,以確保每層芯片的對(duì)準(zhǔn)精度,,以避免電氣性能的損失。至于,,硅穿孔制成技術(shù)上,,因?yàn)門(mén)SV技術(shù)是將垂直通孔穿透每一層硅片,并在通孔內(nèi)填充導(dǎo)電材料,。這一過(guò)程涉及精密的刻蝕和填充技術(shù),,稍有不慎就可能導(dǎo)致電氣連接問(wèn)題或熱應(yīng)力問(wèn)題。

2,、熱管理

由于HBM芯片是3D堆疊結(jié)構(gòu),,相較于傳統(tǒng)的2D芯片,單位體積內(nèi)的熱量密度更高,,這會(huì)導(dǎo)致芯片內(nèi)部的熱量難以散發(fā),,可能引發(fā)熱失效。因此,,CowoS封裝需要設(shè)計(jì)高效的熱管理方案,,例如使用先進(jìn)的散熱材料和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),來(lái)確保芯片的熱穩(wěn)定性。

3,、電源和信號(hào)完整性

HBM需要高頻寬的數(shù)據(jù)傳輸,,這對(duì)電源分配網(wǎng)絡(luò)提出了極高的要求。任何電源噪聲都可能影響HBM的性能,,導(dǎo)致數(shù)據(jù)傳輸錯(cuò)誤。因此,,CowoS封裝必須確保穩(wěn)定的電源供應(yīng)和有效的噪聲抑制,。還有信號(hào)完整性問(wèn)題,也就是高速數(shù)據(jù)傳輸對(duì)信號(hào)完整性產(chǎn)生了挑戰(zhàn),,CowoS封裝需要確保在高頻環(huán)境下,,信號(hào)傳輸?shù)耐暾浴_@牽涉到阻抗匹配,、信號(hào)線長(zhǎng)度優(yōu)化以及減少信號(hào)干擾等技術(shù),。

4、封裝技術(shù)的復(fù)雜性

由于CowoS封裝需要將硅片,、基板和散熱材料等多種材料整合在一起,,這要求各材料的熱膨脹系數(shù)匹配,以避免因熱膨脹差異導(dǎo)致的機(jī)械應(yīng)力和芯片損壞,。還有封裝可靠性問(wèn)題,,例如在CowoS封裝中的多層結(jié)構(gòu)和復(fù)雜的連接方式,都需要確保封裝的長(zhǎng)期可靠性,,包括抗機(jī)械沖擊,、熱循環(huán)和電遷移等因素的影響。

5,、制造成本

當(dāng)然成本是影響產(chǎn)品商業(yè)化專關(guān)鍵的部分,,由于CowoS封裝涉及復(fù)雜的制造技術(shù)和生產(chǎn)的高精度設(shè)備,其制造成本較傳統(tǒng)封裝方式高得多,。這對(duì)量產(chǎn)提出了經(jīng)濟(jì)性挑戰(zhàn),,需要在高性能和成本之間找到平衡。

整體來(lái)說(shuō),,HBM在CowoS封裝中的應(yīng)用,,盡管面臨多方面的技術(shù)難題,但其所帶來(lái)的高頻寬和低功耗優(yōu)勢(shì),,使其在高性能計(jì)算和AI芯片領(lǐng)域中具有巨大的潛質(zhì),。隨著封裝技術(shù)的不斷進(jìn)步,這些技術(shù)難題有望逐步被克服,,進(jìn)而進(jìn)一步推動(dòng)HBM技術(shù)的普及應(yīng)用,。


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