作為日本老牌電子巨頭，佳能相機做得好,，但光刻機做得也不差。
就在今年年初,，佳能關(guān)閉了運營32年的珠海工廠,。盡管，巔峰時期,，這里曾一度占了佳能全球卡片數(shù)碼相機的一半產(chǎn)量,。
到了下半年，不斷收縮中的佳能,，卻大手一揮表示要投資500億日元（約25億人民幣）,，新建半導體設(shè)備工廠。以2021年數(shù)據(jù)來看,，佳能光刻機均價約為：
7857萬,。
更具體來說，去年總計銷售140臺光刻機的佳能,，想要將其產(chǎn)能提高兩倍,，同時，佳能還要研制一種名叫NIL的低成本高端設(shè)備,，試圖在全球高端光刻機領(lǐng)域分一杯羹,。
畢竟一臺最最基礎(chǔ)的EUV光刻機就要超過1億元，還是美刀,。
故事似乎有些反常,？
目前，全球半導體產(chǎn)業(yè)都處于周期底部,，就連長期供不應(yīng)求的臺積電,，也準備于今年關(guān)閉4臺EUV光刻機，鼓勵員工多休息,。對于擴產(chǎn)、購買光刻機的意愿更是一降再降,。
那么問題來了,，晶圓廠們都不愿擴產(chǎn)了，佳能為何在此時增加光刻機產(chǎn)能？
01
佳能擴產(chǎn),，意在中國
項莊舞劍,，意在沛公；佳能擴產(chǎn),，意在中國,。
這么說，原因主要有二：
第一,，雖然全球產(chǎn)能過剩,，但中國芯片仍在擴張，需要光刻機,。
首先來看看中國芯片企業(yè)的數(shù)量,。
企查查搜索芯片，一年內(nèi)成立的企業(yè)有63017家,；成立1-2年的企業(yè)有45511家,；成立2-3年的有20678家。盡管中國芯片產(chǎn)業(yè)沒有按照摩爾定律發(fā)展,，但是企業(yè)數(shù)量卻按照摩爾定律在穩(wěn)步推進,。企業(yè)多了，實力不一定成正比增加,，但對光刻機的需求,，一定會暴漲。
其次看看企業(yè)愿意付出的代價,。
在2021年史無前例大缺芯中,，一臺三十年前佳能的二手光刻機身價暴漲17倍，2014年售價不到10萬美元,，卻足足被炒作賣到了170萬美元,。盡管這臺光刻機僅適用于4至8英寸的晶圓，只能用于350nm的技術(shù),。
第二,，中國光刻機產(chǎn)業(yè)的自主化還有一段距離。
目前,，要生產(chǎn)7nm以下先進芯片制程,，極紫外線光刻機（EUV）是必選項。但全球范圍內(nèi),，僅阿斯麥一家具備EUV光刻機的生產(chǎn)能力,。
那我們距離EUV的距離有多遠呢？
目前國內(nèi)最先進的光刻機來自上海微電子,，其最先進的光刻機是一款代號SSA600/20的DUV設(shè)備,，只能用于90nm芯片的生產(chǎn),。而90nm，是臺積電兩千年前后就已經(jīng)量產(chǎn)的芯片制程,。
因此,，擴產(chǎn)中的中國芯片事業(yè)，迫切需要補上光刻機的短板,。
02
為什么是佳能,？
全球范圍內(nèi)，能做光刻機的企業(yè)不少,，為什么是佳能,？
最直接的原因是，佳能更容易繞過長臂管轄,。
當前,，全球的光刻機主要可以分為兩類，EUV與DUV,。簡單來說,，EUV主要用于7nm及更先進的制程，在這個市場中,，來自荷蘭的阿斯麥一家獨大,。而在14nm以及更成熟的制程中，則主要使用的是DUV設(shè)備,，這一市場則由阿斯麥以及來自日本的佳能,、尼康三分天下。
由于歷史的原因,，在光刻機的生產(chǎn)中,，阿斯麥采用全球分工，尤其是光刻機的核心零部件光源主要來自美國,，因此會受到更多的美國長臂管轄,，而日本企業(yè)更多采用垂直一體化的生產(chǎn)模式，相對來說受限較小,。
一邊是山高皇帝遠的美國管轄,，一邊是不斷增長的中國市場，孰輕孰重,，佳能自然早有結(jié)論,。
政治原因之外，于佳能而言,，借助中國市場,，實現(xiàn)光刻機產(chǎn)業(yè)的“彎道超車”，則是另一重它的隱秘“芯事”,。
根據(jù)爆料,，佳能計劃開發(fā)的該新一代設(shè)備很可能就是2021年成功研發(fā)的米壓印光刻（NIL）的升級版,。
所謂NIL技術(shù)，是將三維結(jié)構(gòu)的掩膜壓在晶圓的感光材料上,，同時照射光線完成一次性轉(zhuǎn)印，被稱為是最有前景的光刻技術(shù)之一,。
相比EUV,，NIL主要有兩大優(yōu)勢。
第一,，NIL更省錢,。眾所周知，EUV設(shè)備就是一臺吞金獸,，光購買價款就超過了一臺波音客機,，還有一年超一千萬度的耗電量。而NIL不僅設(shè)備投資僅有EUV的40%,，耗電量更是僅有10%,。
第二，技術(shù)更加獨立自主,。傳統(tǒng)光刻機市場中,，DUV自主并不罕見，但到了EUV階段,，則需要來自美國的光源,、德國的鏡片、英國的真空腔,，舉全球之力完成,。但是對NIL技術(shù)來說，主要技術(shù)以及零件來源是日本的佳能,，鎧俠以及大日本印刷株式會社（DNP）,，并早在2017年就開始在日本三重縣四日市的鎧俠工廠內(nèi)研發(fā)NIL量產(chǎn)。因此技術(shù)上并不受美國的長臂管轄,。
當然,，這些目前也僅僅只是佳能的官方宣傳，而且主要被用在存儲芯片的生產(chǎn),。
03
不可忽視的日本半導體實力
一直以來,，對于中國芯片產(chǎn)業(yè)鏈的安全，我們常常將其與全面國產(chǎn)畫上等號,。但必須承認的是,，我們的芯片產(chǎn)業(yè)鏈安全，是分兩步走的：
第一步,，左手去美化,，右手全球化,，減少美系設(shè)備、美系技術(shù)對我們的制約,。
第二步,，加快關(guān)于芯片設(shè)備、軟件等上游環(huán)節(jié)的研發(fā),，實現(xiàn)國產(chǎn),。
顯然，拉近與佳能在內(nèi)的日本企業(yè)的距離,，正是我們走第一步的重要一環(huán),。畢竟，日本企業(yè)在半導體產(chǎn)業(yè)上的實力不可小覷,，全球半導體設(shè)備TOP20供應(yīng)商中,，有11家來自日本。
拆開各個環(huán)節(jié)來看,，可以發(fā)現(xiàn)：
在光刻機領(lǐng)域,，除了佳能之外，日本尼康同樣是DUV領(lǐng)域的代表性玩家,，并在3D芯片堆疊的封裝光刻機等細分領(lǐng)域做到了全球領(lǐng)先,。
再比如，除去光刻之外,，一顆芯片的制造還需要許多其他環(huán)節(jié)的配合,。半導體前7道工藝環(huán)節(jié)按照設(shè)備產(chǎn)線投資，可以分為“三大四小”七個環(huán)節(jié),，光刻,、刻蝕、沉積這三大是重中之重,。
三大之中,，除了光刻機可以直接決定芯片的尺寸之外，刻蝕,、沉積設(shè)備同樣也決定著芯片的制程良率,。甚至在7nm芯片的DUV時代，刻蝕機的投入一度超過光刻機,，成為采購占比最高的芯片設(shè)備,。
而日本的東京電子，正是一個從刻蝕到沉積,，再到涂布多個領(lǐng)域四面開花的全能選手,。尤其在涂布設(shè)備環(huán)節(jié)，東京電子的市占率高達九成,，幾近壟斷,。體現(xiàn)在營收上,，東京電子是2021年全球半導體設(shè)備廠商營收的TOP3，僅次于美國的應(yīng)用材料和荷蘭的ASML,。
設(shè)備之外,，在芯片的上游材料方面，日本同樣打滿全場：譬如,，在氟聚酰亞胺領(lǐng)域,，日本企業(yè)的占比高達90%。但日本的材料實力,，可不只一個小小的氟聚酰亞胺，在19種芯片生產(chǎn)必備材料中,，日本在其中的14種都處于行業(yè)領(lǐng)先,，乃至壟斷地位。
尾聲
關(guān)于中國的半導體產(chǎn)業(yè),，總會有一種觀點認為,，我們成為了一座孤立無援的孤島。但果真如此嘛,？
一個最近的小切口,，可以幫助我們更好的了解事情的全貌。
政客不斷層層施壓的當下,，在今年上海的第五屆進博會上,，被美國點名的全球大型半導體及設(shè)備企業(yè)們踴躍參加：
阿斯麥表示，為了滿足在華業(yè)務(wù)的日益增長,，阿斯麥中國團隊人數(shù)近年來穩(wěn)定增加,。
美籍的英特爾、超威半導體,、高通,、泛林、科磊等半導體巨頭也亮相其中,，直言“可推進新一代半導體技術(shù)的突破”,。
而最近被美國屢屢點名，不能對中國出口A100,、H100等高性能芯片的英偉達,，則干脆選擇“偷梁換柱”，推出了“中國特制版”先進計算芯片A800,，既符合美國新的出口管制規(guī)定,，同時也讓那些對A100、H100有需求的中國企業(yè),，找到了低配平替,。
毫無疑問,，在一場所有人都身不由己的芯片政治中，政客要的是權(quán)利,，企業(yè)要的是盈利,，即使千難萬險，他們?nèi)詴x擇用腳投票,。