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反超臺(tái)積電,、三星,?英特爾1.8nm芯片今年內(nèi)流片

2022-09-30
來源:互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀

眾所周知,,目前在先進(jìn)芯片工藝上能夠競爭的,也就只有三星,、臺(tái)積電,、intel了,其它的晶圓廠,,基本上都沒進(jìn)入10nm,,可以說沒資格與三大巨頭競爭。

當(dāng)然,,三星,、臺(tái)積電目前的技術(shù)是3nm,而英特爾是7nm,,相差還是比較大的,,但是intel一直在“磨刀霍霍”,想盡快追上三星,、臺(tái)積電,,發(fā)力晶圓代工。

與此同時(shí),,英特爾將自己的工藝全部重新命名,,改為Intel 7、Intel 4,、Intel 3,、Intel 20A及Intel 18A。

近日,,英特爾CEO在創(chuàng)新大會(huì)上表示,,英特爾計(jì)劃在4年內(nèi)搞定5代CPU工藝,,也就是從今年到2025年這4年,要搞定從Intel 7到Intel 18A的這5代工藝,。

其中Intel 7代表的是12代酷睿上首發(fā)的工藝,,對(duì)比的是臺(tái)積電、三星的7nm工藝,,而intel 20A指的是2nm,,intel 18A指的1.8nm。

英特爾為了佐證自己的能力能夠4年內(nèi)搞定5代工藝,,還表示稱,,今年內(nèi)英特爾要實(shí)現(xiàn)1.8nm芯片的流片。

不僅如此,,英特爾還表示,,在進(jìn)入20A工藝時(shí),會(huì)采用GAA晶體管,,放棄之前的FinFET晶體管,。另外在20A、18A上,,還會(huì)首發(fā)兩大突破性技術(shù),,也就是RibbonFET和PowerVia。

其中RibbonFET是英特爾全新的晶體管架構(gòu)技術(shù),,而PowerVia是Intel獨(dú)有的,、業(yè)界首個(gè)背面電能傳輸網(wǎng)絡(luò),能夠顯著提升芯片性能,,降低功耗,。

何謂流片?就是像流水線一樣通過一系列工藝步驟制造芯片,,也可以說就是試產(chǎn)芯片,,是位于設(shè)計(jì)與量產(chǎn)之間的一個(gè)環(huán)節(jié),也可以稱之為小規(guī)模試產(chǎn),,生產(chǎn)出幾片,,或者幾十上百片來測試。

一般來說,,流片就是檢驗(yàn)芯片是否成功的一個(gè)環(huán)節(jié),,如果流片成功,同時(shí)芯片也點(diǎn)亮,,達(dá)到設(shè)計(jì)時(shí)的要求,,那么后續(xù)就可以直接按照流片時(shí)的各項(xiàng)參數(shù),進(jìn)行量產(chǎn)了,,如果流片不成功,,就要不斷修改調(diào)整,,直到成功。

所以英特爾表示年內(nèi)流片,,即證明1.8nm的芯片已經(jīng)設(shè)計(jì)出來,,同時(shí)具備了晶圓制造的能力和條件。

今年三星還在生產(chǎn)3nm,,而臺(tái)積電也還在小規(guī)模生產(chǎn)3nm,,兩者表示2nm還表示要2025年才能夠量產(chǎn),估計(jì)目前還沒有進(jìn)行流片,,所以這次確實(shí)算是intel領(lǐng)先了。

接下來就看三星,、臺(tái)積電,、英特爾這三大廠商,在先進(jìn)工藝上如何競爭了,,其它晶圓廠們,,就搬凳子看戲吧,反正也沒資格參與,。



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