被美國給打醒,！俄羅斯想造光刻機，全新的技術(shù),，對標(biāo)了ASML的EUV

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誰都知道,，俄羅斯已經(jīng)被美國全面打壓了。

俄羅斯的晶片需求量并不大,，每年的進口量,，也就是一億美元左右，大部分的晶圓廠,，都不會和美國競爭,。

但俄羅斯的一億美金，在俄羅斯來說,，就是一個天文數(shù)字,。

俄羅斯將會做什么？前段時間,，有消息說俄羅斯準(zhǔn)備重新做一臺光刻機,。

他的目標(biāo)很明確，就是要用ASML的最新光刻機,，去挑戰(zhàn)目前最尖端的EUV（UV）,。

當(dāng)然，ASML也不可能戰(zhàn)勝ASML,，因為ASML的EUV光刻機,，都是全世界的人幫忙做的，俄羅斯這邊,，根本就沒有人去做,。

俄羅斯的計劃，就是研發(fā)一種新的技術(shù),，叫做“X射線光刻機”,。

EUV光刻機，原本是將芯片的圖紙,，做成掩模,，然后用13.9nm的紫外線，對掩模進行照射,，然后在芯片上刻下電路,，EUV光刻機就是這么做的。

而“無掩膜X光刻蝕機”則是另一種方式,，它無需做任何掩模,，只需用0.01nm至10nm的X射線，就能將芯片的電路直接繪制出來。

技術(shù)可靠嗎,？這可不是一件容易的事情,，技術(shù)已經(jīng)有了，但效率很低,，在很久以前,，還沒有在芯片上使用過。

畢竟要在一塊硅片上雕刻電路,，光是想想都讓人頭疼,，技術(shù)上的落后還好說,，但光是5nm,，就是幾十億的晶體管，就很難了,。到現(xiàn)在為止,，還沒有任何一家公司，將自己的技術(shù),，投入到光刻的研究中,。

俄羅斯的目標(biāo)是，十一月研發(fā)出一套新的技術(shù)與模式,，并對樣機的技術(shù)規(guī)格與可行性進行分析,，其中的制程要求是28nm或更高。

俄羅斯第一批投入了六億七千萬盧布,，由俄羅斯的莫斯科電子技術(shù)研究所（MIET）接手,，這是蘇聯(lián)的硅谷中心，也是以微電子為主的,。

雖然不知道最終會不會成功,，但一旦成功，將會改變整個世界的芯片行業(yè),。

更多信息可以來這里獲取==>>電子技術(shù)應(yīng)用-AET<<