近日國內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈的企業(yè)之一,,傳芯半導(dǎo)體公開宣布已經(jīng)20余項(xiàng)EUV光刻機(jī)技術(shù)專利,加上此前在激光光源,、工作臺(tái),、鏡頭等方面所取得的成果,國產(chǎn)EUV光刻機(jī)已取得了重大進(jìn)展,,或許數(shù)年后國產(chǎn)EUV光刻機(jī)就將量產(chǎn),,這正讓ASML后悔莫及。
光刻機(jī)之所以難,,在于它是集諸多行業(yè)的精華于一身,,需要諸多產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)共同配合才能量產(chǎn),,一臺(tái)光刻機(jī)就有上萬個(gè)元件,可以說只是光刻機(jī)本身就是一條相當(dāng)大的產(chǎn)業(yè)鏈,。
此前清華大學(xué)機(jī)械工程系朱煜教授帶隊(duì)的清華大學(xué)研發(fā)團(tuán)隊(duì)就已研發(fā)出光刻機(jī)雙工作臺(tái),,由此中國成為全球第二個(gè)可以生產(chǎn)雙工作臺(tái)的國家;此外激光頭,、鏡頭等廠商也陸續(xù)生產(chǎn)出先進(jìn)的組件,,各個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的努力正逐漸完善國內(nèi)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈。
此時(shí)傳芯半導(dǎo)體公開宣布已經(jīng)20余項(xiàng)EUV光刻機(jī)技術(shù)專利,,意味著我國在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)技術(shù)研發(fā)方面也已取得了重大突破,。EUV光刻機(jī)的技術(shù)難度比當(dāng)前正在攻克的DUV光刻機(jī)更大,在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)都已取得技術(shù)突破的時(shí)候,,DUV光刻機(jī)量產(chǎn)自然就更沒難度了,。
中國在光刻機(jī)方面的技術(shù)迅速突破,在于此前具有一定的基礎(chǔ),,事實(shí)上在1990年代的時(shí)候,,我國的光刻機(jī)技術(shù)與海外差距沒有如今那么大,只是后來由于海外光刻機(jī)企業(yè)的日漸強(qiáng)大,,以及當(dāng)時(shí)發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)時(shí)機(jī)未到,,國產(chǎn)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈逐漸凋零,如今經(jīng)過近十年時(shí)間的努力,,國內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈再度打通也就不在話下,。
中國在光刻機(jī)技術(shù)方面的快速突破,已讓ASML感到擔(dān)憂,,事實(shí)上此前在美國的諸多壓力下,,ASML的高管就表示限制ASML向中國供應(yīng)光刻機(jī)無助于全球產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展,中國遲早能解決光刻機(jī)問題,。
對于ASML來說,,中國市場對它意義重大,2021年和今年一季度中國市場為它貢獻(xiàn)了三分之一的收入,,已成為它的最大市場,,如此大的市場,當(dāng)然是ASML不能輕易舍棄的,,事實(shí)今年一季度在諸多壓力下,,ASML就緊急對中國出貨23臺(tái)DUV光刻機(jī),更計(jì)劃在中國增加200名員工,,以更好地為中國客戶服務(wù),,取得更多市場,。
ASML另一重?fù)?dān)憂則是中國光刻機(jī)技術(shù)的快速發(fā)展,,可能成為它的競爭對手,,中國制造此前的事實(shí)一再證明,只要中國取得突破的技術(shù),,那么量產(chǎn)的產(chǎn)品往往比海外競爭對手的便宜許多,,在成本方面ASML根本就不是中國同行的競爭對手。
中國除了繼續(xù)研發(fā)光刻機(jī)之外,,還在研發(fā)無需光刻機(jī)的芯片制造工藝,,這方面已有日本做出示范,日本企業(yè)研發(fā)的NIL工藝就無需光刻機(jī)并已給日本存儲(chǔ)芯片企業(yè)鎧俠采用,,證明了無需光刻機(jī)也能生產(chǎn)芯片,,而日本預(yù)計(jì)NIL工藝可用于5nm芯片的生產(chǎn),如果這一工藝得到推廣對ASML更是滅頂之災(zāi),。
這些消息都無不讓ASML如鯁在喉,,所以美國方面一再施加壓力,但是ASML卻一直都認(rèn)為限制DUV光刻機(jī)沒有多大意義,,DUV光刻機(jī)已是多年前就已成熟的技術(shù),,中國在DUV光刻機(jī)方面的進(jìn)展將會(huì)更快,如今中國在EUV光刻機(jī)技術(shù)上的進(jìn)展如此迅速,,顯示出中國不僅在DUV光刻機(jī)技術(shù)方面進(jìn)展迅速,,在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)技術(shù)方面同樣很快。
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