5月23日消息，據(jù)報道,，近日日本光刻膠巨頭JSR的首席執(zhí)行官埃里克約翰遜(Eric Johnson)在接受采訪時表示，盡管中國在努力推動芯片的自給自足,，但中國半導體產(chǎn)業(yè)必要的基礎設施不足，比如很難掌握基于極紫外(EUV)光刻的復雜芯片制造技術,，發(fā)展先進制程的芯片制造技術將非常困難,。

約翰遜指出，“我認為中國也非常想發(fā)展自己的EUV(極紫外光刻)能力和相關的生態(tài)系統(tǒng)(比如EUV光刻膠),。但坦率地說,，我認為他們要做到這一點非常困難?！?/p>

實際上,，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)CEO溫彼得也在今年1月表達過和約翰遜類似的觀點，認為“中國不太可能復制出頂尖的EUV光刻機”,。但他當時補充稱,，永遠別那么絕對，中國的物理定律和全世界是一樣的,，“他們肯定會嘗試”,。

另外，對于中國在光刻膠領域的追趕,，以及希望在高端光刻膠技術上的突破,，約翰遜認為，即便中國獲得相關化學成分的確切資料,，但在純度,、精度及制造上都非常困難，且中國也沒有供應鏈支持,。但中國當前積極投資成熟的芯片技術,，也是不容忽視的一部分,，“人們還沒充分意識到,，中國有多少機會可以不依賴這些先進制程?！?/p>

資料顯示,，JSR公司成立于1957年，中文名為日本合成橡膠,，是全球主要的光刻膠供應商之一,。在應用方面，光刻膠是半導體,、液晶面板(LCD),、印刷電路板(PCB) 等產(chǎn)業(yè)的重要原材料,。

在半導體領域，目前光刻機曝光光源一共有六種,，分別是紫外全譜(300～450nm),、 G 線(436nm)、 I 線(365nm),、深紫外(DUV,，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV)，相對應于各曝光波長的光刻膠也應運而生,，對應分別為,，G 線光刻膠、I 線光刻膠,、KrF光刻膠,、 ArF光刻膠、EUV光刻膠,。

目前,，在全球半導體光刻膠領域，主要被日本合成橡膠(JSR),、東京應化(TOK),、美國杜邦、日本信越化學,、富士電子,、羅門哈斯等頭部廠商所壟斷，其中JSR占據(jù)了28%的市場,。

而在高端半導體光刻膠市場上,，JSR在ArF光刻膠領域以24%的市場份額位居全球第一。在EUV光刻膠方面,，TOK和JSR有較高的份額,。

從國內的光刻膠市場來看，低端的中g線/i線光刻膠自給率約為20%,，KrF光刻膠自給率不足5%,，而高端的ArF光刻膠完全依賴進口，是國內半導體的卡脖子技術之一,。

至于EUV光刻膠,，由于美國的阻撓，大陸目前無法進口EUV光刻機,，因此國產(chǎn)EUV光刻膠的開發(fā)自然也無從談起,。