近日，上海微電子舉行新產(chǎn)品發(fā)布會(huì),，該公司推出新一代大視場(chǎng)高分辨率先進(jìn)封裝光刻機(jī),。據(jù)悉，上微已與多家客戶達(dá)成新一代先進(jìn)封裝光刻機(jī)銷售協(xié)議,，首臺(tái)將于年內(nèi)交付,。

上海微電子早在2018年就申請(qǐng)了一項(xiàng)名為“一種光刻投影物鏡及光刻機(jī)”的發(fā)明專利（申請(qǐng)?zhí)枺?201811648523．1）。據(jù)悉,，該專利申請(qǐng)人為上海微電子裝備 （集團(tuán)） 股份有限公司,。

光學(xué)光刻是一種用光將掩模圖案投影復(fù)制的技術(shù)，集成電路就是由投影曝光裝置制成的,，將具有不同掩模圖案的圖形成像至基底上,，制造集成電路、薄膜磁頭,、液晶顯示板,，或微機(jī)電等一系列結(jié)構(gòu)。過(guò)去數(shù)十年曝光設(shè)備技術(shù)水平不斷發(fā)展,，滿足了更小線條尺寸,，更大曝光面積,，更高可靠性及產(chǎn)率,，以及更低成本的需求,。然而現(xiàn)有的光刻投影物鏡依舊存在諸如數(shù)值孔徑較小、分辨率低,、適用波段窄,、數(shù)值孔徑不可變和非球面透鏡加工制造成本高等問(wèn)題。

根據(jù)智慧芽數(shù)據(jù)顯示,，截至最新,，上海微電子及其關(guān)聯(lián)公司在126個(gè)國(guó)家／地區(qū)中，共有3541件專利申請(qǐng),，從專利授權(quán)量上來(lái)看,，自2003年開(kāi)始，上海微電子所有專利中,，頭15年每年專利授權(quán)量占該年次專利授權(quán)量比例都非常高,，幾乎占比能達(dá)到90％，但近幾年該公司的專利授權(quán)比例呈現(xiàn)下降趨勢(shì)（詳見(jiàn)圖1）,。智慧芽咨詢專家表示,，授權(quán)發(fā)明專利量在專利申請(qǐng)總量中的占比高低反映了其創(chuàng)新程度高低。此外,，根據(jù)智慧芽的數(shù)據(jù)庫(kù)可知,，該公司的上述專利申請(qǐng)技術(shù)構(gòu)成如下，該公司有48．01％的專利技術(shù)都是和“圖紋面,，例如,，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料,，如：含光致抗蝕劑的材料,；圖紋面照相制版的專用設(shè)備”有關(guān)（詳見(jiàn)圖2）。

圖1：上海微電子專利趨勢(shì)

圖2：上海微電子專利技術(shù)構(gòu)成

（備注：智慧芽全球?qū)＠麛?shù)據(jù)庫(kù)收錄數(shù)據(jù)包括126個(gè)國(guó)家／地區(qū)中已經(jīng)公開(kāi)的專利,，一般來(lái)說(shuō),，專利從申請(qǐng)到公開(kāi)可查詢，需要4到18個(gè)月）