在晶圓代工市場中,，臺積電與三星的競爭始終是大家所關心的戲碼,。其中，三星雖然有高通這樣的VIP 客戶,，但在 7 納米制程節(jié)點上,，高通預計會轉投回臺積電的情況下,，三星要想受到更多的客戶的青睞,，只能從工藝技術上著手了,。

　　這也是三星為什么跳過非 EUV 技術的 7 納米制程，直接上 7 納米 LPP EUV 制程技術的原因,。如今，三星終于公布了他的 7 納米 LPP 制程已經完成了新斯科技（Synopsys）的物理認證,，意味著 7 納米 EUV 制程將可以進行全球量產了,。

　　事實上，目前在全球的前幾大晶圓代工廠商中,，英特爾的10 納米制程還沒搞定,，因此距離 7 納米制程就更遙遠了。而臺積電的 7 納米制程量產比較順利,，會有蘋果,、海思、高通、NVIDIA,、AMD 等客戶陸續(xù)流片,、量產。不過,，臺積電的第一代 7 納米制程,，使用的還是傳統(tǒng)的多重曝光技術，一直必須到 2019 年得第 2 代 7 納米制程才會使用 EUV 光刻技術,。

　　格羅方德方面也走臺積電相似的路線,，預計2018 年量產的 7 納米 DUV 制程還是傳統(tǒng)的深紫外光刻技術。對此,，號稱頻率可達 5GHz 的 AMD 7 納米 Zen 2處理器就會使用格羅方德的 7 納米制程技術,，2019 年初問世，2020年 的再下一代才是 7 納米 EUV 制程技術,。

　　相對于其他競爭對手,，三星在EUV 技術上是最積極的。也就是三星直接跳過了第一代非 EUV 光刻的 7 納米制程,，直接使用加入 EUV 技術的 7 納米 LPP 制程,，并且預定在 2018 年下半年正式量產。日前,，新斯科技與三星已經聯(lián)合宣布,，三星使用的 7 納米 LPP 制程技術完成了 IC 驗證器的認證工作了。

　　在三星完成這次的認證之后,，三星的7 納米 LPP 制程就可以立即提供認證的技術資料,，包括 DRC 設計規(guī)則檢查、LVS 布局與原理圖,、金屬填充技術檔等等給予相關客戶,，而這也意味著三星的 7 納米 LPP 制程正式進入可以量產的階段。

　　目前在EUV 光刻技術競爭激烈下,，各家大廠搶 EUV 光刻機也成為重要經營項目之一,。根據(jù)之前的消息，ASML 的 EUV 光刻機中,，臺積電訂購了大約 10 臺,，三星訂購了大約 6 臺，英特爾訂購了 3 臺,，而格羅方德的EUV訂單數(shù)量不詳,，中芯國際也訂購了 1 臺 EUV 光刻機，將用于 7 納米制程技術研究上,，預計 2019 年初交貨,。而就在各家廠商手中都握有 EUV 光刻機的情況下,，似乎未來在7納米節(jié)點上要勝出，就必須對比大家的最后的技術與管理能力了,。