《電子技術應用》
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臺積電7nm流片13次

2017-07-19

隨著10nm芯片逐步滲透進消費電子產品,,新的制程探索也在加速,。目前已公布的7nm路線圖中,,GF和臺積電的速度最快,,三星事實落后,。據韓媒報道,,三星決定加快6nm的步伐,,其中試產2019年初開啟,,量產在2019年下半年開工,。此舉旨在和臺積電搶奪2019年高通和蘋果的手機芯片代工合同,。

Digitimes報道稱,臺積電目前已經流片了13張7nm樣品芯片,,2018年即可開始批量生產,。

荷蘭艾斯摩表示,EUV(極紫外)光刻機可用于7/6/5nm工藝,,Intel,、臺積電、三星等都采購了相關設備,。只是,,目前唯一沒有披露10nm以下明確規(guī)劃的就是Intel了。

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