《電子技術(shù)應(yīng)用》
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石墨烯需警惕“低端陷阱”

2016-11-21

  作為石墨烯研究最為活躍的國(guó)家之一,,我國(guó)石墨烯技術(shù)創(chuàng)新成果頻出,產(chǎn)業(yè)化發(fā)展勢(shì)頭迅猛,。但與發(fā)達(dá)國(guó)家相比,,我國(guó)石墨烯研究和產(chǎn)業(yè)發(fā)展基本處于產(chǎn)業(yè)鏈和價(jià)值鏈的低端,,面臨著陷入“低端陷阱”的風(fēng)險(xiǎn)。

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  目前,,我國(guó)石墨烯下游應(yīng)用多集中在粉體(類石墨烯)領(lǐng)域,,也就是將石墨烯作為改性添加劑應(yīng)用于涂料、復(fù)合材料,、動(dòng)力電池等規(guī)模大但對(duì)石墨烯的品質(zhì)要求并不高的領(lǐng)域,,產(chǎn)品附加值不高。由于這些應(yīng)用技術(shù)門檻較低,,再加上資本市場(chǎng)的熱捧,,很多企業(yè)涉足其中,盲目擴(kuò)大產(chǎn)能,,產(chǎn)品低端同質(zhì)化現(xiàn)象嚴(yán)重,。

  截至2015年10月,,我國(guó)石墨烯專利申請(qǐng)量達(dá)到13427件,,約占全球申請(qǐng)總量的一半左右。但存在實(shí)用新型專利多,、原創(chuàng)基礎(chǔ)專利少,,國(guó)內(nèi)專利多、國(guó)際專利少,,高校專利多,、企業(yè)專利少的現(xiàn)象,真正原創(chuàng)性,、技術(shù)影響力大的專利很少,,造成我國(guó)石墨烯專利數(shù)量眾多但實(shí)際應(yīng)用價(jià)值偏低的現(xiàn)狀。

  雖然我國(guó)石墨烯粉體和薄膜材料的制備已經(jīng)能夠初步實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),,但目前的制備技術(shù)普遍存在能耗多,、水耗大和工藝不環(huán)保等問題,產(chǎn)業(yè)發(fā)展的環(huán)?!半[患猶存”,。

  為此,國(guó)家有關(guān)部門應(yīng)盡快制定我國(guó)石墨烯產(chǎn)業(yè)發(fā)展總體規(guī)劃,,從中長(zhǎng)期發(fā)展目標(biāo),、產(chǎn)業(yè)布局、重點(diǎn)企業(yè)培育,、關(guān)鍵技術(shù)突破,、下游應(yīng)用行業(yè)等方面統(tǒng)一部署,重點(diǎn)在芯片,、集成電路等下游高端領(lǐng)域加強(qiáng)技術(shù)創(chuàng)新和前瞻性布局,,并合理規(guī)劃產(chǎn)能,,推進(jìn)石墨烯差異化、特色化,、集群化發(fā)展,。

  應(yīng)培育領(lǐng)軍企業(yè)。充分發(fā)揮產(chǎn)業(yè)政策和財(cái)政資金的引導(dǎo)作用,,鼓勵(lì)社會(huì)資本參與,,以培育具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的企業(yè)為目標(biāo),促進(jìn)人才,、資源,、資本向優(yōu)勢(shì)企業(yè)集中。

  應(yīng)加快技術(shù)突破,。整合各類創(chuàng)新資源,,成立國(guó)家級(jí)石墨烯創(chuàng)新中心,制定技術(shù)創(chuàng)新目錄和技術(shù)突破路線圖,,對(duì)材料制備技術(shù),、清潔生產(chǎn)技術(shù)、下游高端應(yīng)用等關(guān)鍵技術(shù)加強(qiáng)攻關(guān),;設(shè)立石墨烯產(chǎn)業(yè)基金,,采用政策性財(cái)政支出和社會(huì)資本共同參與的模式,加快關(guān)鍵技術(shù)成果的轉(zhuǎn)化,。

  此外,,還應(yīng)盡快建立標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范體系,研究制定一批國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),。


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