全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾（ASML）20日宣布,，在臺積電,、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下,，最先進(jìn)的極紫外光（EUV）已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺最新的EUV系統(tǒng)出貨。

　　EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備，一臺售價高達(dá)9,，000  萬歐元（約新臺幣36億元），這項設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備,，因此發(fā)展進(jìn)度,，一直各界關(guān)注焦點。

　　臺積電共同執(zhí)行長暨劉德音表示,，臺積電本季將會再增購一臺EUV設(shè)備,，不過臺積電將會于5奈米制程才會導(dǎo)入生產(chǎn)制程，顯示EUV的輸出率,，目前仍處于試驗階段。

　　不過,，ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得（Peter Wennink）昨天在公布第1季財報后,，也針對EUV進(jìn)展，公布重大突破,。

　　他強(qiáng)調(diào),，ASML的目標(biāo)是在今年持續(xù)強(qiáng)化EUV系統(tǒng)的生產(chǎn)力和妥善率，并計畫在今將機(jī)臺生產(chǎn)力提升到每天曝光1,，500片晶圓,。

　　他說，今年首季,，ASML的EUV系統(tǒng)即展現(xiàn)每天曝光350片晶圓的實力,。在妥善率方面，三個客戶端的EUV系統(tǒng)都展現(xiàn)連續(xù)四周平均妥善率達(dá)80%以上的成果,。

　　至于首季已出貨一臺最新EUV微影系統(tǒng)NXE:3350B,，計劃第2季出貨兩臺EUV系統(tǒng)。

　　ASML首季也推出深紫外光（DUV）最新型浸潤式機(jī)臺NXT:1980,，并出貨6臺,，且快速將生產(chǎn)力拉升到每天4000片晶圓的水準(zhǔn),。這套系統(tǒng)將應(yīng)用在即將邁入試產(chǎn)的10奈米制程。

　　ASML也于本季推出最新一代的整合式量測系統(tǒng)YieldStar 350E,，提供晶圓更準(zhǔn)確的量測結(jié)果來做后續(xù)分析,。

　　ASML昨天公布首季營收13.3億歐元，毛利率42.6%,，雙雙超標(biāo),，本季預(yù)期在客戶導(dǎo)入新的浸潤式機(jī)臺為10奈米量產(chǎn)做準(zhǔn)，且擴(kuò)增28奈米制程產(chǎn)能,，樂觀預(yù)期會有強(qiáng)勁成長,。