10月15日，“中國(guó)光谷”通過(guò)微信公眾號(hào)發(fā)布消息稱(chēng),，武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,，已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì),，有望開(kāi)創(chuàng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。
據(jù)介紹，太紫微公司的這款光刻膠產(chǎn)品對(duì)標(biāo)國(guó)際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列,。相較于被業(yè)內(nèi)稱(chēng)之為“妖膠”的國(guó)外同系列產(chǎn)品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm,，且工藝寬容度更大,，穩(wěn)定性更高，堅(jiān)膜后烘留膜率優(yōu)秀,，其對(duì)后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好,，通過(guò)驗(yàn)證發(fā)現(xiàn)T150 A中密集圖形經(jīng)過(guò)刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異,。
眾所周知,，光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中所必須的關(guān)鍵材料。由于目前光刻機(jī)曝光光源一共有六種,，分別是紫外全譜（300～450nm）,、 G 線(xiàn)（436nm）,、 I 線(xiàn)（365nm）、深紫外（DUV,，包括 248nm 和 193nm）和極紫外（EUV）,，相對(duì)應(yīng)于各曝光波長(zhǎng)的光刻膠也應(yīng)運(yùn)而生，對(duì)應(yīng)分別為,，g 線(xiàn)光刻膠,、i 線(xiàn)光刻膠、KrF光刻膠,、 ArF光刻膠,、EUV光刻膠。
從市場(chǎng)占有率來(lái)看,，全球光刻膠市場(chǎng)主要被日本和美國(guó)廠(chǎng)商占據(jù),。根據(jù) TOK 和 Fujifilm 2020年的數(shù)據(jù)顯示：
g/i ：東京應(yīng)化占比 25.2%，陶氏杜邦占比 19.1%,，住友化學(xué)占比 15.7%,；
KrF：東京應(yīng)化占比 31.4%，信越化學(xué)占比 21.9%,，合成橡膠占比 20.9%,，陶氏杜邦占比 10.9%；
ArF：合成橡膠（JSR）占比24.9%,，信越化學(xué)占比 21.8%,，住友化學(xué)占比 16.8%，東京應(yīng)化占比15.8%,；
EUV：東京應(yīng)化占比51.8%,，另外合成橡膠（JSR）也有不小的份額。
雖然近年來(lái),，隨著國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體制造業(yè)務(wù)發(fā)展,，國(guó)產(chǎn)光刻膠廠(chǎng)商也取得了一些突破，但是在中高端光刻膠市場(chǎng)仍是相對(duì)較弱,。具體來(lái)說(shuō),，低端的中g(shù)線(xiàn)/i線(xiàn)光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%,，而高端的ArF光刻膠也是近兩年才有所突破,，比如彤程新材、南大光電的ArF光刻膠都已有對(duì)外供貨,。至于更高端的EUV光刻膠,，由于美國(guó)的阻撓，國(guó)內(nèi)目前無(wú)法進(jìn)口EUV光刻機(jī)，因此國(guó)產(chǎn)EUV光刻膠的開(kāi)發(fā)自然也無(wú)從談起,。
資料顯示,，太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學(xué)武漢光電國(guó)家研究中心團(tuán)隊(duì)創(chuàng)立,。團(tuán)隊(duì)立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研發(fā),，在電子化學(xué)品領(lǐng)域深耕二十余載。
企業(yè)負(fù)責(zé)人,、英國(guó)皇家化學(xué)會(huì)會(huì)員,、華中科技大學(xué)教授朱明強(qiáng)表示：“以原材料的開(kāi)發(fā)為起點(diǎn)，最終獲得具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù),，這只是個(gè)開(kāi)始,，我們團(tuán)隊(duì)還會(huì)發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場(chǎng)景下的KrF與ArF光刻膠，為國(guó)內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來(lái)更多驚喜,?！?/p>
△太紫微核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)成員（前排左一為朱明強(qiáng)教授）
太紫微公司致力于半導(dǎo)體專(zhuān)用高端電子化學(xué)品材料的開(kāi)發(fā),，并以新技術(shù)路線(xiàn)為半導(dǎo)體制造開(kāi)辟新型先進(jìn)光刻制造技術(shù),，同時(shí)為材料的分析與驗(yàn)證提供最全面的手段。
“無(wú)論是從國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起的背景來(lái)看,，還是從摩爾定律演變的規(guī)律展望未來(lái),，‘百家爭(zhēng)鳴’的局面已形成，光刻領(lǐng)域還會(huì)有很多新技術(shù),、新企業(yè)破繭成蝶,，但擁有科技創(chuàng)新的力量是存活下去的必要前提?！碧衔⑼馄笇?zhuān)家顧問(wèn)表示,。
