據彭博社2月9日的消息,ASML 在本周三發(fā)布的最新年度報告中提到:“2021 年初,我們根據有關報道了解到,XTAL的關聯公司,正在中國積極銷售可能侵犯 ASML 知識產權的產品。”

據公開資料顯示,XTAL的“關聯公司“為中國的東方晶源微電子,此為前者的母公司,XTAL在2019年的竊取 ASML 商業(yè)機密案后注銷。

ASML表示:已經要求部分客戶暫停與 XTAL 中國的母公司東方晶源微電子的業(yè)務往來,并已告知中國政府相關情況。同時,正在“密切關注這一情況,并準備在適當的時候采取法律行動”。

彭博社表示,發(fā)送至 XTAL 網站上列出的官方電子郵件的詢問無法送達,并且打給東方晶源微電子北京總部的電話也無人接聽。

此前,六名前ASML的中國雇員,與XTAL中國員工分享了ASML軟件流程的信息,而遭受調查,后者被指控竊取ASML產品和服務的一小部分,將其出售給了ASML位于韓國的客戶。值得一提的是,該客戶為韓國的三星,而三星為XTAL的第二大股東,持有XTAL30%的股份。

2019 年 5 月,美國加州圣克拉拉市法院判決 XTAL 竊取 ASML 商業(yè)機密一案,ASML 獲得勝訴。加州高等法院判給 ASML 8.45 億美元(約合 57.4 億人民幣)賠償及臨時禁令,并接手已破產的 XTAL 的大部分知識產權。

從目前披露的信息來看,涉及侵權的產品也并非光刻機技術。

據了解,東方晶源微電子科技(北京)有限公司(下稱“東方晶源”)成立于2014年2月,總部位于北京,在上海及深圳設有研發(fā)中心。是由俞宗強博士帶領海外華人科學家、工程師設立的高科技公司。

東方晶源承擔了三項國家“02重大專項”任務,分別為“計算光刻軟件與測試系統(tǒng)的研制”、“自由光瞳照明技術在光刻機中的應用研究”以及“14nm以下電子束硅片圖形缺陷檢測設備研發(fā)與產業(yè)化”。其中前兩項均與國產浸沒式光刻機研發(fā)有關,是國產浸沒式光刻機所需的核心技術。

東方晶源主要業(yè)務為服務芯片設計與制造的EDA軟件產品、光刻機制程優(yōu)化系列產品的研發(fā)以及納米級檢測裝備和關聯軟硬件產品良率綜合優(yōu)化解決方案的研發(fā)與生產。公司的核心業(yè)務和產品均為國內唯一,填補國內空白。

其中，光刻機優(yōu)化和計算光刻軟件(OPC)是連接芯片設計和制造的核心軟件,也是光刻機工作的必備軟件。東方晶源研發(fā)生產的納米級電子束圖形檢測裝備(EBI和CD-SEM)也是芯片制造過程中良率檢測和控制的必備設備,也是國內目前唯一可以實現28納米前道檢測的裝備。公司前述三項產品均已在國內主要客戶產線驗證并獲得多個訂單,打破了國際巨頭在該等領域的多個壟斷。公司目前共申請專利142項,獲得授權46項,其中包括日本、美國專利19項。