據(jù)臺媒經(jīng)濟日報報道,，為朝半導(dǎo)體制造的1納米甚至埃米（0.1納米）世代超前部署，據(jù)高雄市府知情官員透露,，臺積電正為2納米之后的先進制程持續(xù)覓地,，包含橋頭科、路竹科,，均在臺積電評估中長期投資設(shè)廠的考量之列,。
關(guān)于是否前進高雄，臺積電昨（27）日維持董事長劉德音日前的論調(diào),，「以后有機會,，短期沒規(guī)劃」。
劉德音日前強調(diào),，臺積電在北中南的投資規(guī)劃各占三分之一,，5納米制程以南科為主，預(yù)計會占六,、七成,，2納米制程投資將在竹科二期擴大地，竹科擴大二期如果不夠的話,，中科臺積電廠區(qū)旁邊還有一塊土地可供后續(xù)使用,。
臺積電的晶圓制造制程已發(fā)展到2納米，并朝1納米甚至埃米等級的制程加速布局,。中國臺灣行政院副院長沉榮津也曾允諾,，將竭力協(xié)助臺積電在1納米與各項投資上，解決土地、水,、電等需求,，要維持其在先進制程保持全球領(lǐng)先地位。
高市府官員透露,，臺積正持續(xù)在探尋「2納米以后」的設(shè)廠用地,，曾為此接觸過市府，其需求是要能有一塊完整且既成的設(shè)廠用地,，而橋頭科,、路竹科，都在其中長期設(shè)廠投資的探詢之列,，不過考量用地大小,，橋頭科更為適宜。
不僅臺積電開始超前部署覓地,，行政院也規(guī)劃在2021年至2025年間,，投入43.72億元推動「？（埃米）世代半導(dǎo)體」計畫,，要先由政府「花學(xué)費」,，從設(shè)備，儀器,，材料與製程技術(shù)瓶頸等探路,，作為半導(dǎo)體業(yè)界未來投資方向的「探照燈」。
根據(jù)規(guī)劃,，中國臺灣科技部長吳政忠所提出六個加強發(fā)展的主軸,，其一為攸關(guān)島內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展的「？ 世代半導(dǎo)體」,，意指半導(dǎo)體在進入3奈米制程后,，接下將進入？（埃米） 領(lǐng)域,，因此政府與業(yè)界也開始著手布局,。
政院官員透露，半導(dǎo)體技術(shù)在1納米以下會開始遇到瓶頸,，但并非不可突破,，因半導(dǎo)體界尚無如此前瞻的研究，產(chǎn)業(yè)界也尚無馀力處理,，因此在諮詢過半導(dǎo)體界意見后,，挑出基本可探索的方向，進行前瞻技術(shù)研究,，建立此領(lǐng)域的基礎(chǔ)技術(shù)能量。
但臺積電羅鎮(zhèn)球今年八月在一個演講中曾表示，目前為止,，我們看到3納米,、2納米、1納米都沒有什么太大問題,。
設(shè)備和材料都已經(jīng)準(zhǔn)備好,？
來自日媒的報道稱，在不久前舉辦的線上活動中,，歐洲微電子研究中心IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示,，在與ASML公司的合作下，更加先進的光刻機已經(jīng)取得了進展,。
Luc Van den hove表示,，IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場,，目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產(chǎn)能,，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,，目前目標(biāo)是將工藝規(guī)?？s小到1nm及以下。
目前ASML已經(jīng)完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統(tǒng)的基本設(shè)計,，至于設(shè)備的商業(yè)化,。要等到至少2022年，而等到臺積電和三星拿到設(shè)備,，之前要在2023年,。
與此同時，臺積電在材料上的研究,，也讓1nm成為可能,。
臺積電和交大聯(lián)手，開發(fā)出全球最薄,、厚度只有0.7納米的超薄二維半導(dǎo)體材料絕緣體,，可望借此進一步開發(fā)出2納米甚至1納米的電晶體通道，論文本月成功登上國際頂尖期刊自然期刊（nature）,。
國立交通大學(xué)電子物理系張文豪教授研究團隊在科技部長支持下,，與臺灣積體電路制造股份有限公司合作，合作研究開發(fā)出全球最薄,、厚度僅0.7納米,、大面積晶圓尺寸的二維半導(dǎo)體材料絕緣層，臺積電表示,，關(guān)鍵則在于單晶氮化硼技術(shù)的重大突破,，將來可望藉由這項技術(shù)，進一步開發(fā)出2納米甚至1納米的電晶體通道。
目前臺積電正在推動3納米的量產(chǎn)計劃,，指的就是電晶體通道尺寸,，通道做的越小，電晶體尺寸就能越小,，而在不斷微縮的過程中,，電子就會越來越難傳輸，導(dǎo)致電晶體無法有效工作,，目前二維半導(dǎo)體材料是現(xiàn)在科學(xué)界認為最有可能解決瓶頸的方案之一,。
二維半導(dǎo)體材料特性就是很薄，平面結(jié)構(gòu)只有一兩個原子等級的厚度,，張文豪指出,，但也因此傳輸中的電子容易受環(huán)境影響，所以需要絕緣層來阻絕干擾,，目前半導(dǎo)體使用的絕緣層多半是氧化物,，一般做到5納米以下就相當(dāng)困難，無法小于1納米,，團隊開發(fā)出的單晶氮化硼生長技術(shù),，成功達成0.7納米厚度的絕緣層。
文章第一作者臺積電技術(shù)主任陳則安,，為清大化學(xué)系博士,，他表示，單晶是指單一的晶體整齊排列,，單晶對于未來半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)比較有幫助,，因為假設(shè)絕緣層不是單晶結(jié)構(gòu)，中間會出現(xiàn)很多缺陷,，電阻經(jīng)過的時候可能被缺陷影響,，導(dǎo)致效能變差，實驗也已證實會有影響,，未來還需要更多研究,。
陳則安說，過去科學(xué)界認為,，銅上不太可能出現(xiàn)單晶生長,，但是研究團隊在實驗發(fā)現(xiàn)，微米單位范圍內(nèi)氮化硼有同向生長的狀況,，排列出單一晶體,，因此透過分析這極小的區(qū)域，調(diào)整實驗參數(shù)和選擇材料,，成功克服障礙,，不但可以單晶生長,，還能做到大面積二吋晶圓的尺寸。
臺積電處長李連忠曾經(jīng)是中研院原分所研究員,，他表示,，臺積電研究團隊經(jīng)過基礎(chǔ)研究后，找到問題和突破可能性,，跟交大化學(xué)氣相沉積實驗室合作，讓氮化硼單晶在銅上生長,，作為保護二維半導(dǎo)體材料的通道,，目前無法說明量產(chǎn)時間，還有很多關(guān)鍵技術(shù)要突破,，例如金屬接觸和元件優(yōu)化,，但是的確對于未來電晶體尺寸再縮小將有幫助。