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國(guó)產(chǎn)新突破,,北方華創(chuàng)ICP刻蝕機(jī)1000腔順利交付

2020-12-14
來(lái)源:全球半導(dǎo)體觀察

近期,,國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)取得新的突破。北方華創(chuàng)近日宣布,,公司ICP刻蝕機(jī)1000腔已經(jīng)順利交付,。

北方華創(chuàng)自2001年成立后便開(kāi)始組建團(tuán)隊(duì)研發(fā)刻蝕技術(shù),并于2004年第一臺(tái)設(shè)備成功起輝,,2005年第一臺(tái)8英寸ICP刻蝕機(jī)在客戶(hù)端上線,,并于2007年獲得國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng),。

目前,北方華創(chuàng)的刻蝕設(shè)備已覆蓋集成電路,、LED,、先進(jìn)封裝,、功率半導(dǎo)體,、MEMS、化合物半導(dǎo)體,、硅基微顯等多個(gè)領(lǐng)域,。

其中,12英寸ICP刻蝕機(jī)在實(shí)現(xiàn)客戶(hù)端28nm國(guó)產(chǎn)化替代的同時(shí),,在14/7nm SADP/SAQP,、先進(jìn)存儲(chǔ)器、3D TSV等工藝應(yīng)用中也發(fā)揮著重要作用,。

北方華創(chuàng)表示,,lCP刻蝕機(jī)交付突破1000腔,不僅是公司發(fā)展征程中的重要里程碑,,更是國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)在歷經(jīng)了二十載自主創(chuàng)新,,得到客戶(hù)廣泛認(rèn)可的重要標(biāo)志。


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