在2019年,，臺積電和三星都準備量產(chǎn)7納米的EUV工藝了,，并且明年也會是5納米工藝的一個重要節(jié)點。要知道，在半導體制造的工藝中,，最重要而且最復雜的就是光刻步驟,，往往光這部分的成本就能占到33%左右,，所以半導體想要有突破性的發(fā)展,，和光刻機的提升密不可分。

　　在光刻機這個領域,，荷蘭的ASML公司是毫無疑問的王者,。目前最先進的光刻機就是來自這家ASML公司生產(chǎn)的EUV光刻機，每臺售價超過1億美元,，而且供不應求,。

　　ASML主要業(yè)務是光刻機，在光刻機領域處于絕對領先的地位,。在45納米以下制程的高端光刻機市場中,，占據(jù)80%以上的市場份額，而在EUV光刻機領域,，目前處于絕對壟斷地位,，市占率為100%，處于獨家供貨的狀態(tài),。阿斯麥的主要客戶為全球一線的晶圓廠,，除了英特爾、三星和臺積電這三大巨頭之外,，國內(nèi)的中芯國際也是阿斯麥的客戶,。

　　有外媒報道稱，ASML公司目前正積極投資研發(fā)新一代EUV光刻機,，和往代的相比,，新款EUV光刻機最大的變化就是高數(shù)值孔徑透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機的微縮分辨率,、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,，達到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求,。之前ASML公布的新一代EUV光刻機的量產(chǎn)時間是2024年，不過最新報道稱下一代EUV光刻機是2025年量產(chǎn),，這個時間上臺積電,、三星都已經(jīng)量產(chǎn)3nm工藝了。

　　最后科普一下,，阿斯麥的光刻機按照使用的光源不同,，可以分為DUV光刻機和EUV光刻機。DUV是Deep Ultra Violet,，即深紫外光,；EUV是Extreme Ultra Violet，即極紫外光,。DUV光刻機的極限工藝節(jié)點是28nm,，要想開發(fā)更先進的制程,，就只能使用EUV光刻機了,。