《電子技術(shù)應(yīng)用》
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ASML有的可不止光刻機(jī)

2019-03-08

ASML ( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)的主要供應(yīng)商,,也是EUV系統(tǒng)的唯一供應(yīng)商,。根據(jù)Network題為“Sub 100nm光刻:市場分析與戰(zhàn)略問題”的報道,,ASML當(dāng)前取得的成績可以匯總為以下幾點(diǎn):


1)ASML占據(jù)EUV光刻市場100%的份額,;

2)ASML占據(jù)浸沒式193nm DUV光刻市場93%的份額,;

3)ASML占據(jù)248nm DUV光刻行業(yè)73%的份額,。


2016年,,ASML以31億美元收購了Hermes Microvision Inc. (簡稱HMI),,后者是一家為全球鑄造和記憶體晶圓廠提供電子束檢測工具的供應(yīng)商,。


這里有一個值得注意的關(guān)鍵點(diǎn),。ASML銷售HMI檢測系統(tǒng)作為其整體光刻產(chǎn)品系統(tǒng)的一部分,包括光刻圖案,、計量和檢測產(chǎn)品以及服務(wù),。2018年,ASML和HMI設(shè)備的綜合銷售團(tuán)隊通過其整體光刻解決方案為客戶提供服務(wù),,包括精確的圖案信息計量,。


計量/檢驗(yàn)市場


如圖1所示,ASML在電子束檢測市場占據(jù)主導(dǎo)地位,,這是毫無疑問的,。客戶購買光刻工具,,然后可以從同一家公司購買檢測工具,,以監(jiān)控晶圓片上的圖案描繪。根據(jù)Network的報告《超大規(guī)模集成電路制造中的計量,、檢驗(yàn)和過程控制報告》,,ASML在2018年的市場份額為91.4%,領(lǐng)先于應(yīng)用材料的8.4%,。

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圖一


應(yīng)用材料首席執(zhí)行官迪克森在最近的2019年第一季度財報電話會議上指出:“對于我們的過程控制業(yè)務(wù),,我對目前取得的進(jìn)展感到高興。我們實(shí)現(xiàn)了創(chuàng)紀(jì)錄的一年,。我們的電子束技術(shù)業(yè)務(wù)增長非常強(qiáng)勁,。我們可能會第一次成為電子束行業(yè)的第一名,并且隨著2019年新產(chǎn)品的采用,,我們的定位也會很好,。”


同時,,他表示:“在18,19年,,邏輯器件的客戶開始購買EUV系統(tǒng)。這些系統(tǒng)的交貨期很長。他們在EUV工具進(jìn)入大批量生產(chǎn)前幾年就開始購買了,。我們將其視為客戶采用未來節(jié)點(diǎn)的積極指標(biāo),。但可以肯定的是,現(xiàn)在,,在18,19年,,市場絕對是逆風(fēng)?!?/p>


迪克森這一評論明顯與現(xiàn)實(shí)不符,。迪克森明顯將應(yīng)用材料的電子束技術(shù)和競爭對手的EUV混為一談(記住ASML擁有該行業(yè)的100%份額,并且是唯一的EUV供應(yīng)商),,使讀者和投資者認(rèn)為應(yīng)用材料會將檢測系統(tǒng)賣給EUV客戶,,現(xiàn)實(shí)是ASML在EUV市場采用自己的電子束檢驗(yàn)給其客戶。并且,,在2019年應(yīng)用材料僅為8.6%的情況下,,說它將成為該行業(yè)的領(lǐng)頭羊,未免有些夸張,。


KLA (KLAC)不銷售電子束模式的晶圓檢測設(shè)備,,但銷售光學(xué)模式的晶圓檢測系統(tǒng)。我于2019年2月13日升級了Seeking Alpha文章《2018年KLA-Tencor延續(xù)計量/檢驗(yàn)設(shè)備市場主導(dǎo)地位》,,將2017年和2018年計量/檢驗(yàn)設(shè)備供應(yīng)商的市場份額納入其中,,而不再僅僅是五大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。


如圖2所示,,2018年KLA在全球計量/檢驗(yàn)市場的份額保持在53.1%,。ASML的份額從2017年的5.8%上升到2018年的6.4%。應(yīng)用材料的市場份額從2017年的11.9%下降到2018年的10.4%,,盡管它宣稱將在2019年引領(lǐng)電子束市場!

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圖2


Nova metrics (NVMI)和Rudolph Technologies (RTEC)等規(guī)模較小的公司也保持著同比增長的市場份額,。同時,Nanometrics的市場份額也從2017年的3.9%增長到了2018年的4.4%,。


對比年增長率,,表3顯示了這些計量/檢驗(yàn)公司的收入增長情況。Nanometrics增長了28.0%,,ASML增長了25.8%,。與此同時,2017年至2018年,,應(yīng)用材料在這一領(lǐng)域僅僅增長了0.5%,。

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圖3


計量/檢驗(yàn)的重要性是什么?


計量/檢驗(yàn)設(shè)備必須能夠發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體制造過程中的錯誤,。根據(jù)設(shè)備供應(yīng)商日立高新技術(shù)的觀點(diǎn)表示:


“計量和檢驗(yàn)對半導(dǎo)體制造過程的管理很重要,。在半導(dǎo)體晶圓的整個制造過程中,,有400到600個步驟,需要一到兩個月的時間,。如果在流程的早期出現(xiàn)任何缺陷,,那么在后續(xù)耗費(fèi)時間進(jìn)行的步驟中的所有工作都將被浪費(fèi)?!?/p>


因此,,在半導(dǎo)體制造工藝的關(guān)鍵點(diǎn)上建立了計量和檢測過程,以確保能夠確認(rèn)和維持一定的產(chǎn)量,。


全球最大的半導(dǎo)體代工廠臺積電(TSM)于2019年2月底發(fā)布報告稱:“來自化學(xué)材料供應(yīng)商的一批光阻劑含有一種特殊成分,,經(jīng)不正常處理后,在光阻劑中生成一種外來聚合物,。這種外來聚合物對Fab 14B的12/16納米晶圓片產(chǎn)生了不良影響,。這種效應(yīng)后來在晶圓片偏離正常產(chǎn)量時被發(fā)現(xiàn)?!?/p>


預(yù)計此次事件將使臺積電第一財季營收減少約5.5億美元,,毛利率減少2.6個百分點(diǎn),,營業(yè)利潤率減少3.2個百分點(diǎn),,每股收益減少0.42元。


該公司官方聲明的關(guān)鍵點(diǎn)是“后來發(fā)現(xiàn)了影響”,。臺積電的官方聲明沒有具體說明晶圓損失的數(shù)量,,但中國報紙《ETtoday》的一篇報道指出,“成千上萬”的晶圓在這次事故中報廢,。


《wccftech》雜志分析了有關(guān)臺積電失誤的信息后得出結(jié)論稱,,生產(chǎn)中的芯片是英偉達(dá)(NVDA)的Geforce 2060芯片,根據(jù)Geforce芯片的面積,,1萬個晶圓將生產(chǎn)120萬個芯片,,零售價為4.2億美元。


投資者建議


隨著半導(dǎo)體設(shè)計規(guī)則的減少,,良率對缺陷的尺寸和密度變得更加敏感,。此外,生產(chǎn)中的新制造技術(shù)和設(shè)備架構(gòu),,包括3D FinFET晶體管,、3D NAND、先進(jìn)的自對準(zhǔn)多模式和EUV光刻技術(shù),,正在創(chuàng)造計量/檢測需求的范式轉(zhuǎn)變,。


2018年,計量/檢測行業(yè)的增長速度幾乎是整個晶圓前端(WFE)設(shè)備市場的兩倍,。盡管整個晶圓前端市場在2019年將下降15%(根據(jù)Network),,計量/檢驗(yàn)市場應(yīng)該再次超過晶圓前端市場,。2018年計量/檢測增長強(qiáng)勁的KLAC、ASML和NANO到2019年可能再次超過晶圓前端市場,。


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