業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的公司Entegris（納斯達(dá)克：ENTG）日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒,，用于以極紫外(EUV)光刻技術(shù)進(jìn)行大批量IC制造,。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設(shè)備制造商之一的ASML密切合作而開(kāi)發(fā)的,，已在全球率先獲得ASML的認(rèn)證,，用于NXE:3400B等產(chǎn)品,。

　　隨著半導(dǎo)體行業(yè)開(kāi)始更多地使用EUV光刻技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)制程的大批量制造(HVM),，對(duì)EUV光罩無(wú)缺陷的要求比以往任何時(shí)候都要嚴(yán)格,。Entegris的EUV 1010光罩盒已經(jīng)過(guò)ASML的全面認(rèn)證,，可用于他們的最新一代光刻機(jī)，并展現(xiàn)了出色的EUV光罩保護(hù)性能,，包括解決最關(guān)鍵的微粒污染挑戰(zhàn),。Entegris的EUV 1010也因此讓客戶能夠安全地過(guò)渡到最先進(jìn)的光刻工藝所需的越來(lái)越小的線寬,。

　　為了在NXE:3400B光刻機(jī)中實(shí)現(xiàn)上述性能，Entegris開(kāi)發(fā)了用于接觸光罩和控制環(huán)境的新技術(shù),。Entegris晶圓和光罩處理副總裁Paul Magoon表示：“Entegris EUV 1010代表了缺陷率改進(jìn)方面的重大突破,，得益于此，先進(jìn)技術(shù)制程HVM的客戶可以專注于提高效率和產(chǎn)量,。與ASML的共同開(kāi)發(fā)和測(cè)試確保了EUV 1010符合最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)的要求,。”

　　關(guān)于Entegris

　　Entegris是為微電子及其他高科技行業(yè)提供特殊化學(xué)品和先進(jìn)材料處理解決方案的領(lǐng)導(dǎo)者,。Entegris通過(guò)了ISO-9001認(rèn)證,，并在美國(guó)、中國(guó),、法國(guó),、德國(guó)、以色列,、日本,、馬來(lái)西亞、新加坡,、韓國(guó)和臺(tái)灣地區(qū)設(shè)有制造工廠,、客服中心和／或研發(fā)機(jī)構(gòu)。更多信息請(qǐng)?jiān)L問(wèn)：www.entegris.com