過(guò)去一年，Nor Flash的價(jià)格飛漲和前景看好,，讓大家對(duì)編碼式存儲(chǔ)器重燃了信心，包括兆易創(chuàng)新和旺宏在內(nèi)的眾多廠商在去年也從中掙到盤(pán)滿(mǎn)缽滿(mǎn),。在很多人看來(lái),，這種略顯古老的產(chǎn)片沒(méi)啥技術(shù)含量，但從Nor Flash的發(fā)展看來(lái),，他們同樣面臨各種各樣的挑戰(zhàn),。

日前，北京大學(xué)微納電子學(xué)研究學(xué)院蔡一茂在一篇名為《NOR Flash:Scaling 的挑戰(zhàn),、可靠性及表征》的演講中,，談到了Nor Flash的各種挑戰(zhàn)，現(xiàn)將其摘錄如下,，與廣大讀者分享,。

閃存的演變

根據(jù)Nor Flash的原理，它是使用CHE來(lái)編碼,，然后使用FN Tunning 來(lái)擦除,，而電荷注入機(jī)制對(duì)這兩個(gè)因素的印象很大，我們來(lái)分別看一下其考量和解決辦法：

首先看CEH,。據(jù)了解,，CHE的注入對(duì)編碼速度和lg有明顯的提升，同時(shí)能夠擴(kuò)大對(duì)離子化率的影響（高橫向電場(chǎng)）,，還能影響收集效率（高垂直電場(chǎng)）,。但對(duì)CHE來(lái)說(shuō)，如下圖所示,，影響他們的因素也有很多,。

為此，可以使用TCAD仿真來(lái)模擬CHE注入的影響,，提高產(chǎn)品性能,。

TCAD仿真

介乎Flaoting Gate和Bulk之間的FN Tunning同樣也會(huì)受到各種因素的影響。

FN Tuneling

這時(shí)候使用MLC方案則能完美解決相關(guān)問(wèn)題,。

SLC和MLC的對(duì)比

對(duì)于Nor Flash來(lái)說(shuō),，我們還需要考慮一下可靠性的問(wèn)題,。例如Over-Erase ，比如Nor Disturb,，還有隧道氧化和可靠等問(wèn)題,。這就需要一些很好的解決方法。另外,，在微縮的過(guò)程中,，Nor Flash還會(huì)面臨Random Telegraph Signals Noise (RTN)等問(wèn)題。

由上所述,，Nor Flash從設(shè)計(jì)到生產(chǎn),，再到交付到客戶(hù)手中，要考量其可靠性,、合格性,、保持性，同時(shí)還要經(jīng)過(guò)保持特性失效分析,。經(jīng)過(guò)以上重重考驗(yàn)的NorFlash才能滿(mǎn)用戶(hù)對(duì)使用溫度（55度）,，斷電數(shù)據(jù)保持時(shí)間>10年，擦寫(xiě)次數(shù)>10萬(wàn)次等多方面的需求,。

為了幫助讀者更好的了解Nor Flash的相關(guān)技術(shù)挑戰(zhàn)和解決方案,，我們提供了蔡教授的完整PPT下載，點(diǎn)擊“閱讀原文”,，注冊(cè)后即可下載,，前30名用戶(hù)還可獲贈(zèng)泰克官方整理的完整印刷版《半導(dǎo)體器件的表征及可靠性研究交流會(huì)匯編》！

希望我國(guó)的Nor Flash產(chǎn)業(yè)能夠快速發(fā)展,，更上一層樓,。