內(nèi)容提要：

　　Cadence的強大工具和豐富IP結合TSMC 12FFC工藝,，助力SoC設計師打造中端移動應用及高端消費電子應用

　　Cadence數(shù)字與簽核及定制/模擬電路仿真工具套件獲得新版DRM認證，助力客戶啟動早期開發(fā)

　　Cadence提供庫特征化工具流程,，并為開始采納12FFC工藝的客戶開發(fā)全新IP

　　可供客戶下載的全新PDK

　　2017年3月21日,，上海——楷登電子（美國 Cadence 公司,，NASDAQ: CDNS）今日正式公布其與臺灣積體電路制造股份有限公司（TSMC）全新12nm FinFET緊湊型（12FFC）工藝技術開發(fā)的合作內(nèi)容,。憑借Cadence 數(shù)字與Signoff解決方案、定制/模擬電路仿真解決方案及IP,，系統(tǒng)級芯片（SoC）設計師可以利用12FFC工藝開發(fā)正在快速發(fā)展的中端移動和高端消費電子應用,。上述應用對PPA性能（功耗、性能和面積）的要求更高,，為此,，Cadence正與12FFC工藝的早期客戶開展緊密合作。

　　Cadence數(shù)字與簽核及定制/模擬電路仿真工具已獲得TSMC為12FFC工藝設立的新版設計規(guī)則手冊（DRM）認證,，支持TSMC的全新12FFC工藝技術,；流程設計工具包（PDK）也已發(fā)布，供客戶下載,。此外,，Cadence專門開發(fā)設計庫特征化工具流程，并為已經(jīng)采納12FFC工藝的客戶開發(fā)全新IP,。如需了解Cadence全流程數(shù)字與簽核解決方案的詳細內(nèi)容,，請訪問www.cadence.com/go/tsmc12ffcds。如需了解Cadence定制/模擬電路仿真解決方案的詳細內(nèi)容,，請訪問www.cadence.com/go/tsmc12ffcca,。如需了解Cadence IP解決方案的詳細內(nèi)容，請訪問www.cadence.com/go/tsmc12ffcip,。

　　12FFC數(shù)字簽核與定制/模擬電路仿真工具認證

　　已獲得12FFC工藝認證的Cadence數(shù)字與Signoff,，以及定制/模擬電路仿真工具包括：

　　·Innovus 設計實現(xiàn)系統(tǒng)：符合TSMC 12FFC設計需求，包括布圖規(guī)劃,、利用色彩／pin訪問／變更感知集成的時序收斂實現(xiàn)布局和布線,，以及時鐘樹和功耗優(yōu)化；提高生產(chǎn)力,，縮短周轉(zhuǎn)時間,。

　　·Quantus QRC提取解決方案：所有12FFC建模特征皆符合TSMC的精度要求，對標代工黃金標準（Foundry Golden）,，支持多重曝光,，并內(nèi)置3D提取功能。

　　·Tempus 時序簽核解決方案：支持延遲和信號完整性效應的集成高級工藝計算,；支持靜態(tài)時序分析（STA）,；包括低電壓應用在內(nèi)，皆符合TSMC嚴苛的精度標準,。

　　·Voltus IC電源完整性解決方案：單元級電源完整性工具,。全面支持電遷移和電壓降（EM／IR）設計規(guī)則和要求的同時,，高精度實現(xiàn)全芯片SoC電源簽核。

　　·Voltus-Fi定制化電源完整性解決方案：SPICE級的精確工具,。全面支持電遷移和電壓降（EM／IR）的設計規(guī)則和要求,，實現(xiàn)晶體管級仿真、存儲及定制化數(shù)字IP模塊的分析與簽核,。

　　·Virtuoso 定制化IC先進節(jié)點平臺：支持從設計實施到驗證的創(chuàng)新流程,，提高生產(chǎn)力；集成電氣與物理設計檢查,，并符合TSMC認證Cadence簽核平臺的相關標準,。

　　·Spectre 仿真平臺：包括Spectre電路仿真工具、Spectre并行加速仿真工具（APS）,、Spectre eXtensive 分區(qū)仿真工具（XPS）,，完全支持具有自發(fā)熱和可靠性效應的先進節(jié)點設備模型，快速精準的實現(xiàn)電路仿真,。

　　·物理驗證系統(tǒng)：采用多項先進技術和工作規(guī)則,，支持設計規(guī)則檢查（DRC）、電路布局驗證（LVS）,、先進金屬填充,、良率評估、壓敏檢查及實時設計簽核,。

　　·光刻電氣分析器：支持版圖依賴效應（LDE）感知再仿真,、版圖分析、匹配約束檢查,、LDE貢獻報告,；并可以依據(jù)部分版圖生成固定方案，加速12FFC模擬設計收斂,。

　　Cadence數(shù)字與簽核工具支持12FFC工藝所需的增強布圖規(guī)劃,、布局、布線及提取功能,。Cadence定制/模擬電路仿真工具提供豐富的底層支持與功能,，助設計師獲得遠高于傳統(tǒng)工藝的生產(chǎn)力，精準的快速實現(xiàn)12FFC設計驗證,，同時確保高性能及高可靠性。

　　12FFC設計庫參數(shù)描述工具流程

　　Cadence Virtuoso Liberate? 參數(shù)特征化解決方案和 Virtuoso Variety? 統(tǒng)計參數(shù)描述解決方案也獲得TSMC批準,，將為包括高級時序,、噪聲和功耗模型在內(nèi)的7nm工藝提供Liberty內(nèi)容庫。憑借創(chuàng)新的自由變量形式（LVF）描述方法,，上述解決方案可以實現(xiàn)工藝變更簽核,；并創(chuàng)建電遷移（EM）模型,，實現(xiàn)EM信號優(yōu)化及簽核。

　　面向12FFC的 IP合作

　　過去數(shù)年,，Cadence與采用16FF+ 與16FFC工藝的核心客戶緊密合作,，并于今日開始與12FFC客戶展開合作，開發(fā)面向智能手機,、平板電腦及其他高端消費電子應用的下一代應用處理器,。目前，Cadence正將其旗艦產(chǎn)品LPDDR4 PHY遷移至12FFC工藝節(jié)點,，目標傳輸速度4266Mbps,，助客戶充分發(fā)揮12FFC工藝的優(yōu)勢。同時,，Cadence已經(jīng)完成面向12FFC的LPDDR控制器IP開發(fā),。憑借更高速的處理器和全新的緊湊型標準單元庫，采用12FFC工藝的客戶將得以進一步縮小芯片尺寸,，大幅降低設備功耗,。

　　“我們的客戶希望使用最高質(zhì)量的設計工具、IP和工藝技術,，而且非常重視工具的靈活性,，以實現(xiàn)每個SoC項目的具體目標?！?Cadence公司全球副總裁兼數(shù)字與簽核事業(yè)部,、系統(tǒng)與驗證事業(yè)部總經(jīng)理Anirudh Devgan博士表示， “除了高性能和節(jié)約成本,，TSMC的全新12FFC可以助客戶充分發(fā)揮FinFET工藝的優(yōu)勢,。我們與TSMC合作開發(fā)了豐富的工具和IP，共同客戶將使用熟悉的工具和流程,，在各自領域大展身手,。”

　　“12FFC工藝是介于16nm和7nm工藝之間的另一種理想選擇,，提升了客戶在打造面積與功耗敏感應用時的靈活性,。” TSMC設計架構市場部資深總監(jiān)Suk Lee表示,。 “得益于和Cadence的長期合作,，我們及時推出了針對全新12FFC工藝的強大工具、流程和IP,?！?/p>