中國科學(xué)家在《自然·納米技術(shù)》雜志上發(fā)表論文稱,，他們在單晶石墨烯制備上取得了一項突破,。通過對化學(xué)氣相沉積法（CVD）的調(diào)整和改進(jìn)，他們將石墨烯薄膜生產(chǎn)的速度提高了150倍,。新研究為石墨烯的大規(guī)模應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。

　　據(jù)科技日報8月11日消息，石墨烯是由碳原子構(gòu)成的只有一層原子厚度的二維晶體材料,，在電、光,、機(jī)械強度上的優(yōu)異特性,，使其在電子學(xué)、太陽能電池,、傳感器等領(lǐng)域有著眾多潛在應(yīng)用,。雖然需求巨大，但其制備速度緩慢,，利用率一直徘徊在25%左右,，成為制約其進(jìn)入實際應(yīng)用的瓶頸之一,。目前制備高質(zhì)量石墨烯的方法，除膠帶剝離法,、碳化硅或金屬表面外延生長法外,，主要是化學(xué)氣相沉積法。但通過CVD技術(shù)生產(chǎn)單晶石墨烯薄膜仍然需要耗費很長的時間,，制備一塊厘米見方的單晶石墨烯薄膜至少需要一天的時間,，十分緩慢。

　　在新的研究中,，中國北京大學(xué)和香港理工大學(xué)的研究人員開發(fā)出一種新技術(shù),，能將這一過程從每秒0.4微米加速到每秒60微米，速度提升150倍,。而其中的訣竅,，就是在參與反應(yīng)的銅箔上直接加入了少許氧氣。

　　研究人員表示,，氧化物基板會在化學(xué)氣相沉積過程中高達(dá)800攝氏度的高溫中釋放出氧氣,。氧氣的連續(xù)供應(yīng)提高了石墨烯的生長速率。他們通過電子能譜分析證實了這一點,，但測量表明,，氧氣雖然被釋放，然而總量很小,。研究人員解釋說,，這可能與氧化物基板與銅箔之間非常狹小的空間產(chǎn)生了俘獲效應(yīng)，從而提高了氧氣的利用效率有關(guān),。在實驗中,，研究人員能在短短5秒的時間內(nèi)生產(chǎn)出0.3毫米的單晶石墨烯。

　　研究人員稱,，對石墨烯產(chǎn)業(yè)而言,，該研究意義重大。通過該技術(shù)石墨烯的生產(chǎn)將能采用效率更高的卷對卷制程,。而產(chǎn)量的增加和成本的下降,，會進(jìn)一步擴(kuò)大石墨烯的使用范圍，刺激其需求量的增長,。