據(jù)IHS iSuppli公司的研究，隨著DRAM市場過渡到效率更高的低納米技術(shù),，該產(chǎn)業(yè)的成本削減及節(jié)省步伐從2012年開始將放緩,。

    雖然最近幾個(gè)季度DRAM產(chǎn)業(yè)在推低光刻節(jié)點(diǎn)方面比較積極,，但在今年剩余時(shí)間內(nèi)力度將逐漸減弱。今年第一季度該產(chǎn)業(yè)的加權(quán)平均節(jié)點(diǎn)從2010年第四季度的5.3%上升到5.6%,，表明推動(dòng)DRAM技術(shù)遷移的力度增大,。在此期間，成本降幅從7.8%增大至14.2%,，晶圓成本下降情況與光刻工藝的變化相符,。

    IHS iSuppli公司的研究顯示，但從第二季度開始,，預(yù)計(jì)DRAM產(chǎn)業(yè)對于光刻工藝遷移的態(tài)度將不再那么積極,，成本下降速度也將變慢。第二季度lithography reduction將下降到5.2%,，第三季度下降到4.8%,，第四季度降到3.7%。相應(yīng)地,，成本削減幅度也將在第二季度下降到12%,，第三和第四季度分別降至9和4%，如圖2所示,。

    確實(shí),，DRAM產(chǎn)業(yè)正在經(jīng)歷幾種轉(zhuǎn)變，例如許多供應(yīng)商進(jìn)行戰(zhàn)略性調(diào)整,，擺脫商品類DRAM,；建立新的制造與代工聯(lián)盟；繼續(xù)向40納米及更先進(jìn)的工藝遷移,。IHS公司認(rèn)為,，所有這些因素都將對供需關(guān)系產(chǎn)生影響，進(jìn)而影響利潤率和供應(yīng)商的利潤,。

    令人意外的是，由于上一個(gè)繁榮周期利潤率大幅上升,，第一季度DRAM產(chǎn)業(yè)保持盈利狀態(tài),。上一個(gè)繁榮周期始于2009年第二季度，持續(xù)到一年以后結(jié)束,。盡管DRAM平均銷售價(jià)格持續(xù)下降,，但目前的周期符合歷史形態(tài)，隨著需求的起伏變化,，芯片價(jià)格與DRAM廠商的利潤也隨之波動(dòng),。

    尤其是，預(yù)期中的成本下降將來自技術(shù)變化，DRAM芯片將越來越多地采用新型光刻設(shè)備和技術(shù)制造,。從2010年第四季度到今年第一季度,，推動(dòng)光刻工藝變化的主要廠商是Inotera和Rexchip，前者的平均光刻節(jié)點(diǎn)橫跨至50納米,，而后者則前進(jìn)到了40納米,。

    IHS iSuppli公司的研究顯示，雖然DRAM成本下降可以來自光刻技術(shù)變化以外的其它因素,，但那些額外考慮現(xiàn)在完全可以排除,。其中一個(gè)因素是以擴(kuò)大規(guī)模效益為目的的產(chǎn)能增長，該因素將受到限制,，因?yàn)閺S商將繼續(xù)對專門用于產(chǎn)能擴(kuò)張的資本支出保持謹(jǐn)慎,。另一個(gè)因素是運(yùn)營效率，由于以前及目前的疲軟局面促使廠商的運(yùn)營保持相對緊縮,，該因素預(yù)計(jì)不會對未來的成本節(jié)省有太大影響,。

    IHS的估計(jì)顯示，隨著向4x納米的過渡明年徹底完成,，成本下降勢頭將更加變?nèi)?。?011年剩余時(shí)間內(nèi)，每季度相對于光刻遷移的成本下降將達(dá)到6.5%,，2012年縮窄到3.3%,。隨著光刻遷移勢頭在未來幾個(gè)季度減弱，成本下降趨勢將反映這種變化——現(xiàn)在強(qiáng)勁,，2012年減弱,。