1 月 21 日消息,，韓媒 MoneyToday 當(dāng)?shù)貢r(shí)間昨日表示,，三星電子已將其 1c nm DRAM 內(nèi)存開發(fā)的良率里程碑時(shí)間從 2024 年底推遲至 2025 年 6 月，而這一變化可能會(huì)影響到三星對(duì) HBM4 內(nèi)存的規(guī)劃,。
三星電子原計(jì)劃在 2024 年 12 月將 1c nm 制程 DRAM 的良率提升至 70%,，達(dá)到結(jié)束開發(fā)工作,、進(jìn)入量產(chǎn)階段所需的水平。但在實(shí)際情況中,，三星雖于去年底成功制得 1c nm DRAM 的良品晶粒,，整體良率卻無法滿足要求。
三星上代 1b nm 內(nèi)存于 2022 年 10 月完成開發(fā),、2023 年 5 月量產(chǎn),；如果 1c nm 的開發(fā)結(jié)束時(shí)間定于今年中，那么量產(chǎn)就要落到 2025 年底,，兩代 DRAM 工藝間的間隔會(huì)來到約 2.5 年,，這明顯長(zhǎng)于 1.5 年的業(yè)界一般開發(fā)周期。
另一方面,，三星電子在 DRAM 內(nèi)存領(lǐng)域的兩大競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手中,，SK 海力士已于 2024 年 8 月宣布 1c nm 開發(fā)成功，而美光內(nèi)部的計(jì)劃是在今年 4 月完成開發(fā)；三星很可能成為最后一家官宣 1c nm DRAM 的三大原廠,。
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