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下行周期,,誰在搶奪掩膜版,?

2022-11-14
作者: 龔佳佳
來源:半導體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: 掩膜版 半導體 光刻機

  如何一句話拉近與陌生人的距離:現(xiàn)在不景氣啊,,都沒有單子,,你家有嗎,?這是筆者日前在某一電子展上的所見所聞,,以此為開頭,,幾個陌生人迅速交換了聯(lián)絡(luò)方式,并投入到了激烈的討論中,。

  當前,,全球半導體產(chǎn)業(yè)不景氣已經(jīng)成為不爭事實,裁人,、砍單,、縮減資本等各種降本措施層出不求,就連代工一哥臺積電都傳出客戶大規(guī)??硢?,7nm制程產(chǎn)能利用率跌至50%以下,然而就在這一片低迷的局勢中,,芯片制造必需的掩膜版卻傳出供給告急,,明年價格將再漲10%~25%。

  下行周期里,,到底是誰在搶掩膜版,?全球市場格局又呈現(xiàn)出怎樣的局面?

  下行的周期,,逆行的MASK

  光刻機對芯片制造的重要性,,想必大家都有所了解,而掩膜版就是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版。掩膜版(Photomask)又稱為光罩,、光掩膜,、光刻掩膜版等,由制造商通過光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成,,主要作用體現(xiàn)為利用已設(shè)計好的圖案,,通過透光與非透光方式進行電路圖形復制,從而實現(xiàn)芯片的批量生產(chǎn),。

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  從數(shù)據(jù)來看,,掩膜版供給告急并不是空穴來風。公開消息顯示,,以往高規(guī)格掩膜版的出貨時間為7天,,現(xiàn)在拉長4~7倍至30~50天,而低規(guī)格產(chǎn)品的交貨時間也較平時增加一倍,。甚至有芯片設(shè)計廠商擔憂稱,,需要 30~45 個光掩膜來進行半導體開發(fā),但現(xiàn)在卻無法正確獲得,。半導體業(yè)者透露,,掩膜版電子束圖形曝光源(e-beam patterning lighters)等制造設(shè)備延后交貨,耽擱掩膜版出廠,、推升產(chǎn)品價格,。

  那么,為什么掩膜版的需求量會如此之高,?這需要從掩膜版的性質(zhì)來說,,在芯片制造中,掩膜版屬于不可缺少的消耗品,。由于每個掩膜版所能夠繪制的電路圖是有限的,而芯片制作又需要很多不同的電路圖形,,相應就會需要很多塊掩膜版,。尤其隨著芯片制程工藝的演進,電路圖變得越來越復雜,,所需的掩膜版也越來越多,。ASML數(shù)據(jù)顯示,2021年5nm制程每片晶圓平均掩膜版層約逾10層,,3nm之后,,每片晶圓平均掩膜層約將倍增達20層。DRAM部分,,目前采用EUV技術(shù)完成約5層掩膜版量產(chǎn),,明年后將提升至8到10層。雖然每片晶圓所需要的掩膜版數(shù)量很多,,但每塊掩膜版在轉(zhuǎn)移完版上圖形后,,就不會再用到,,而且在工藝驗證過程中,一旦發(fā)生設(shè)計變動,,調(diào)整了光刻版圖,,那么原本制作的光掩膜也不會再使用。

  上述屬性決定了掩膜版本身的需求量就很大,,然而之所以能在下行周期里,,還能撐起逆行市場,還有以下兩大原因:

  一是來自系統(tǒng)半導體,,特別是高效能芯片,,如車用半導體和自駕車芯片等需求的飆漲,而過去掩膜版擴產(chǎn)甚為有限,。

  眾所周知,,智能汽車所帶來的芯片市場規(guī)模是十分龐大的,英特爾首席執(zhí)行官Pat Gelsinger 預測,,到 2030 年,,汽車半導體市場將翻一番,達到 1150 億美元,,而高端汽車上搭載的半導體數(shù)量將增加 5 倍,。目前,汽車領(lǐng)域已經(jīng)成為了眾多芯片廠商瞄準的新賽道,,甚至于三星電子和SK海力士等存儲廠商都已逐漸將目光投向了汽車半導體領(lǐng)域,,更不用說其他系統(tǒng)半導體廠商,更是扎堆涌入,,在消費電子失速的當下,,汽車迥然成為了他們的救星。

  但是過去掩膜版的擴產(chǎn)是十分有限的,。一般來說,,掩膜版制造商分為兩種,一種是英特爾,、三星,、臺積電等代工廠擁有自制掩膜版業(yè)務(wù),但他們的產(chǎn)能都是自產(chǎn)自銷,;另一種就是獨立于代工廠的第三方掩膜版制造商,,諸如美國Photronics、日本DNP,、凸版印刷等,,此類廠商主要銷售的是成熟制程掩膜版,比如上述提到的車用芯片,大多數(shù)仍是成熟制程,,麥肯錫高級顧問Denise Lee日前指出,,成熟工藝制程仍將是汽車芯片生產(chǎn)的主流,預計到2030年汽車芯片的成熟工藝制程需求將達到10%左右的復合年增長率,。

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  與先進制程掩膜版相比,,成熟制程掩膜版利潤率長期處于低位,未來十年僅更新生產(chǎn)設(shè)備就需要投入10-20億美元,,更不要說新建產(chǎn)線,,凸版印刷就曾估計,以65納米節(jié)點為例,,一條新的光掩膜生產(chǎn)線預計需投資6500萬美元,。巨大的折舊成本可能與當前掩膜版市價倒掛,長期回報率不足以激發(fā)廠商投資,,這也使得過去掩膜版擴產(chǎn)有限,,因此面對現(xiàn)下蜂擁而至的需求,掩膜廠的產(chǎn)能難免有些“捉襟見肘”,,供不應求之下,,市場自然逆行向上。

  二是晶圓代工廠與IC設(shè)計廠產(chǎn)能陸續(xù)釋出,,有更多新芯片完成設(shè)計定案,,掩膜版開案逐步涌現(xiàn)。

  臺灣光罩總經(jīng)理陳立惇先前曾分析,,半導體需求在往下,,但晶圓代工廠與設(shè)計公司的產(chǎn)能都開始松動,但也因為有空出產(chǎn)能,,新芯片完成設(shè)計定案,,掩膜版開案才能開始涌入,有更多的Tape out進來,,對掩膜版廠來說,,客戶需求反而增加,下半年需求反而比上半年好,。

  上述提到不同的芯片設(shè)計需要的掩膜板也是不同的,自動駕駛,、5G,、元宇宙等技術(shù)的發(fā)展催生出了芯片的新需求,但由于此前缺芯情勢過于嚴峻,,芯片設(shè)計廠和代工廠專注于短缺芯片,,無暇顧及太多新需求,而如今,缺芯情況已經(jīng)得到了明顯緩解,,雖然行業(yè)景氣徹底反轉(zhuǎn),,已經(jīng)處于下行周期內(nèi),但設(shè)計廠商想要立于不敗之地,,搶奪未來市場仍是重中之重,,隨之而來的是新芯片設(shè)計案數(shù)量的“水漲船高”,這也是IC設(shè)計廠擴大下單掩膜版廠商的原因,,他們需要購買新的掩膜板并供應給代工廠,。

  芯片設(shè)計廠瘋狂下單,但掩膜版廠已有產(chǎn)能有限,,擴產(chǎn)也需要時間,,短期內(nèi)又不會出現(xiàn)新的產(chǎn)線,這也加劇了緊張的供需關(guān)系,。

  掩膜版巨頭的增產(chǎn)投資

  雖然過去掩膜版廠商對于擴產(chǎn)十分謹慎,,但在當前這個行業(yè)情勢下,巨頭們也是大動作頻頻,,比如最近的臺灣光罩,,臺灣光罩是全球第六大掩膜版制造商,最新財報顯示,,臺灣光罩第三季合并營收達20.68億元,,年增28%;第三季營業(yè)毛利5.42億元,,年增48%,;第三季營業(yè)凈利3.05億元,年增89%,。

  為解決掩膜版產(chǎn)能持續(xù)吃緊,,搶先取得關(guān)鍵產(chǎn)能,爭取設(shè)備交機時效,,臺灣光罩決定逆勢追加4.6億元資本支出,,用于訂購KLA半導體檢測設(shè)備,預計于今年12月裝機,,并于明年第一季創(chuàng)造營收,,預估營收將持續(xù)二位數(shù)成長。此前,,臺灣光罩主要供應給6英寸/8英寸晶圓代工廠,,2019年開始更進一步跨足12英寸晶圓掩膜版市場,法人估計今年臺灣光罩掩膜版12英寸業(yè)務(wù)占比將從2021年的21%提升至30%,。不僅如此,,臺灣光罩40nm也預計于2022年導入量產(chǎn),,28nm則估計在2023年上半年導入量產(chǎn),90/65nm等制程產(chǎn)品已量產(chǎn),。

  早在今年3月初,,臺灣光罩就召開董事會現(xiàn)金增資發(fā)行新股事宜,預計規(guī)劃兩年內(nèi)透過現(xiàn)金增資募集新臺幣60億元,,以支應興建廠房與購置機器設(shè)備,,作為中長期產(chǎn)能升級計劃所需資金,該計劃完成后預計將增加20%產(chǎn)能,,并可支持到40nm的半導體制程所需的掩膜版,。當時消息顯示,除了在現(xiàn)有廠區(qū)擴產(chǎn)之外,,臺灣光罩也將在苗栗銅鑼園區(qū)投資建新廠,。在今年1月初,臺灣光罩還曾宣布將投資35.57億元,,主要是用在擴充產(chǎn)能與建廠的資本支出,。

  掩膜版作為芯片制造的關(guān)鍵材料,半導體材料大國日本的實力自然不容小覷,,擁有SKE,、豪雅(HOYA)、日本DNP印刷公司(大日本印刷),、日本凸版印刷株式會社(Toppan Printing)等多家巨頭企業(yè),。今年8月,日經(jīng)新聞報道稱,,因看好半導體中長期旺盛需求,,日本半導體材料大廠凸版印刷將通過子公司“Toppan Photomask”在2023年度之前投資約200億日元(約合人民幣10.13億元),擴大在日本及中國臺灣工廠的掩膜版產(chǎn)能,。

  Toppan Photomask是凸版印刷于今年4月剝離其光掩膜業(yè)務(wù)而成立的子公司,,目的是為了更容易從外部籌集投資資金,據(jù)悉,,Toppan Photomask將增設(shè)使用于5-10nm邏輯芯片,、10nm等級DRAM等先進產(chǎn)品的掩膜版產(chǎn)線,先進制程產(chǎn)品的掩膜版產(chǎn)能較2020年度相比提高約2成,。凸版印刷指出,,短期內(nèi)出現(xiàn)過剩情況消解的動向不奇怪,但中長期來看需求將成長,。

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  除此之外,,日經(jīng)新聞2月報道稱,DNP將在2023年度之前向設(shè)在日本,、中國大陸和臺灣的生產(chǎn)工廠投資近100億日元來增加生產(chǎn)線,。據(jù)了解,DNP在中國臺灣,、中國大陸和意大利與當?shù)仄髽I(yè)建立了合資公司,,今后將通過增資等方式提高產(chǎn)能,構(gòu)建可根據(jù)供求情況在短期內(nèi)交貨的生產(chǎn)體制,。DNP表示,,車載和傳感器等通用性較高的中端產(chǎn)品所用的光掩膜處于短缺狀態(tài),因此決定增產(chǎn),。

  值得一提的是,,就在11月10日,DSP宣布將投資200億日元,,在福岡縣北九州市的黑崎工廠新建大型金屬掩膜生產(chǎn)線,,預計2024年上半年開始運營,雖然該產(chǎn)線主要是用于制造OLED顯示器所需的掩膜版,,而非芯片制造所需,,但從一定程度上也反映出無論顯示還是芯片,對掩膜版的需求都十分旺盛,。

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  緊追其后的國產(chǎn)廠商

  受到掩膜版整體市場景氣度的提升,,我國兩大掩膜制造商近期的股價也逆勢增長,11月10日,,路維光電漲逾10%,,清溢光電漲超7%,而兩家的財報數(shù)據(jù)更是喜氣洋洋,。其中,,龍頭廠商路維光電第三季度單季營業(yè)收入1.99億元,同比增長31.21%,,歸母凈利潤為3905.37萬元,,同比增長104.74%;清溢光電三季度營業(yè)總收入2.06億元,,同比上升28.95%,,本季度歸母凈利潤3015.41萬元,同比上升193.82%,。

  雖然凈利潤增幅直線飆升,,但需要注意的是,兩家巨頭的大頭業(yè)務(wù)都在平板顯示領(lǐng)域,,半導體芯片業(yè)務(wù)占比皆不足兩成(路維光電2021年半導體芯片領(lǐng)域占比19.68%,,清溢光電2021年半導體芯片占比16.68%),不過好在隨著下游晶圓廠的話語權(quán)不斷增加,,國產(chǎn)替代節(jié)奏有望提速,,國內(nèi)掩膜版廠商能力也在不斷成長,。

  路維光電在今年IPO中擬募資4.05億元,主要用于高精度半導體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴產(chǎn)項目等,。路維光電表示,,募投項目會進一步將半導體掩膜版量產(chǎn)能力提升至130nm制程節(jié)點,并立足于自主研發(fā),、突破半導體掩膜版制造中的精度控制,、缺陷控制等關(guān)鍵技術(shù),將半導體掩膜版制作技術(shù)進一步推進至110nm/90nm/65nm等制程節(jié)點,。據(jù)悉,,路維光電已實現(xiàn)250nm制程節(jié)點半導體掩膜版的量產(chǎn),掌握180nm/150nm制程節(jié)點半導體掩膜版制造核心技術(shù)能力,。

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  清溢光電也在加快半導體芯片掩膜版布局,,目前已實現(xiàn)250nm工藝節(jié)點的6英寸和8英寸半導體芯片用掩膜版的量產(chǎn),正在推進180nm半導體芯片用掩膜版的客戶測試認證,,同步開展130nm-65nm半導體芯片用掩膜版的工藝研發(fā)和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃,。

  此外,為了進一步滿足產(chǎn)能,,清溢光電也在積極引進所需設(shè)備,,深圳工廠新引進的半導體芯片用掩膜版光刻機及配套設(shè)備已投產(chǎn),提升半導體芯片和 MicroLED 顯示,、硅基半導體顯示用掩膜版等產(chǎn)品的產(chǎn)能,。從清溢光電去年財報數(shù)據(jù)來看,半導體芯片領(lǐng)域已經(jīng)成為發(fā)展最快的業(yè)務(wù),,增速高達 39.42%,,有望成為新的增量業(yè)務(wù)。

  國內(nèi)廠商在發(fā)力的同時,,半導體大佬也在積極建設(shè)掩膜版廠,。“中國半導體之父” 張汝京深度參與的青島芯恩項目就自建了光罩廠,,2021年8月,,青島芯恩正式宣布8英寸廠投片成功,投片產(chǎn)品為功率芯片,,良率達90%以上,,光罩廠也于同期完成了產(chǎn)品交付。而就在今年8月,,張汝京主導的光罩材料產(chǎn)業(yè)鏈項目簽約落戶浙江嘉興,,項目總投資30億元,首期投資11億元,,主要從事光罩材料產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)產(chǎn)品的研發(fā)制造,。

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  寫在最后

  從某種意義上來說,,掩膜版廠商的逆勢擴產(chǎn)與大硅片廠商有著“異曲同工之妙”,都是看中了半導體長期的強勁需求,。DigitalJournal數(shù)據(jù)顯示,,2021 年全球半導體光掩膜市場規(guī)模為 46.87 億美元,預計在預測期內(nèi)以6.11%的復合年增長率增長,,到2027年達到 66.9128 億美元。與集成電路產(chǎn)業(yè)千億美元的市場相比,,這個數(shù)據(jù)可以說是微乎其微,,但掩膜版對整個產(chǎn)業(yè)卻有著舉足輕重的作用,其質(zhì)量的優(yōu)劣是可以直接影響光刻的質(zhì)量,,進而影響到芯片的性能,。

  五礦證券報告顯示,未來掩膜版發(fā)展趨勢主要有 3 個方向:第一精度趨向精細化,,半導體領(lǐng)域,,先進制程工藝的演進,使其對與之配套的晶圓制造以及芯片封裝掩膜版提出了更高要求,,隨著先進制程占比有望越來越大,,未來掩膜版產(chǎn)品的精度將日趨精細化;第二尺寸趨向大型化,,隨著電視尺寸趨向大型化,,帶動面板基板逐步趨向大型化,直接決定了掩膜版產(chǎn)品尺寸趨向大型化,;第三掩膜版廠商向上游產(chǎn)業(yè)鏈延伸,,為了降低原材料采購成本,控制終端產(chǎn)品質(zhì)量,,掩膜版廠商開始陸續(xù)向上游產(chǎn)業(yè)鏈延伸,,HOYA、LG-IT等部分企業(yè)已經(jīng)具備了研磨/拋光,、鍍鉻,、光阻涂布等掩膜版全產(chǎn)業(yè)鏈的生產(chǎn)能力。

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  雖然本土掩膜版廠商已經(jīng)取得了很大的進步,,然而上游產(chǎn)業(yè)鏈的缺失也阻礙了他們發(fā)展的步伐,,不過從當前整體局勢來看,想要打通整個產(chǎn)業(yè)鏈依舊任重而道遠,,但仍要相信前方必有曙光,。

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