眾所周知,，芯片制造是產(chǎn)業(yè)鏈條廠,，周期長(zhǎng)，門檻高的行業(yè),。芯片制造需要幾十上百種半導(dǎo)體設(shè)備,，這些設(shè)備來自于不同的廠家，缺一不可,。

同時(shí)這些設(shè)備都對(duì)應(yīng)著工藝節(jié)點(diǎn),，也就是制造精度，比如28nm,、14nm,、5nm。

并且芯片制造,，是遵循木桶理論的,，即芯片工藝，取決于最落后設(shè)備精度,，這些設(shè)備中,，工藝最差的設(shè)備，就決定了芯片精度,。

一直以來,，美國就在半導(dǎo)體設(shè)備上作文章，通過截?cái)嗄骋环N設(shè)備,，來卡住中國大陸芯片制造的脖子,，比如不允許ASML的EUV光刻機(jī)賣到中國大陸來，截止中國大陸的芯片工藝進(jìn)入7nm。

所以國內(nèi)這幾年在半導(dǎo)體設(shè)備上不斷努力,，就是希望能夠擺脫對(duì)國外設(shè)備的依賴,，只領(lǐng)先國產(chǎn)設(shè)備，也實(shí)現(xiàn)高精度的芯片制造,。

那么問題就來了,，目前大陸的晶圓廠，如果不從國外采購半導(dǎo)體設(shè)備,，使用純國產(chǎn)的半導(dǎo)體設(shè)備,，那么最高能夠生產(chǎn)幾nm的芯片？

近日有分析機(jī)構(gòu)提供了一張圖,，展示了當(dāng)前芯片制造流程中,，最關(guān)鍵的幾種設(shè)備，國產(chǎn)的精度是多少,。

如上圖所示,，最先進(jìn)的是刻蝕機(jī)，中微的刻蝕機(jī)已經(jīng)達(dá)到了5nm的精度,。而最落后的是光刻機(jī),，上海微電子的光刻機(jī)，僅實(shí)現(xiàn)90nm的精度,。

其實(shí)絕大部分的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備,，其精度最高也是14nm，還有停留在28nm的,、65nm的,。

如果依據(jù)木桶理論，那么使用全國產(chǎn)設(shè)備,，能夠生產(chǎn)出來的芯片,，最高也就是90nm?？隙ㄓ腥藭?huì)說,，光刻機(jī)可以多重曝光，90nm精度,，可能也能夠達(dá)到28nm的精度,，這其實(shí)是沒經(jīng)官方確認(rèn)的。

另外就算多重曝光達(dá)到28nm了,，但涂膠顯影機(jī)還在65nm,，這也就決定了最多也就是65nm的工藝。

很明顯,，國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的路還很漫長(zhǎng),，我們要擺脫對(duì)國外半導(dǎo)體設(shè)備的依賴，還差得遠(yuǎn)，還需要繼續(xù)努力,。

這還只是半導(dǎo)體設(shè)備環(huán)節(jié),，其實(shí)芯片制造中，還需要各種半導(dǎo)體材料,、EDA,、IP等等，上圖是同花順之前發(fā)布的一份關(guān)于芯片設(shè)計(jì),、半導(dǎo)體材料,、半導(dǎo)體設(shè)備的國產(chǎn)化率數(shù)據(jù)。

很明顯,，在芯片制造上,，我們要努力的地方還特別多，與國際頂尖水平的差距,，真的還太遠(yuǎn),，容不得半點(diǎn)馬虎啊,。

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