臺積電今天宣布了一個新的制程工藝節(jié)點“N4P”——看起來是4nm，但其實是5nm的又一個版本，確切地說是N5,、N5P,、N4之后的第四個版本,、第三個升級版,，注重高性能。

臺積電稱,，N4P工藝相比最初的N5工藝可提升11％的性能,，或者提升22％的能效、6％的晶體管密度,，而對比N4可將性能提升6.6％,。

此外，N4P工藝會重復使用多層遮罩,，因此可大大降低工藝復雜度,，加快晶圓生產(chǎn)速度。

臺積電稱,，N4P工藝是為客戶5nm工藝平臺產(chǎn)品升級準備的,，不但可以最大化挖掘投資價值,，還可以更快、更高效地升級N5工藝產(chǎn)品,。

臺積電表示,，第一款基于N4P工藝的產(chǎn)品預計2022年下半年流片。

臺積電此前披露,，N3 3nm工藝將在今年內(nèi)風險性試產(chǎn),，2022年下半年大規(guī)模量產(chǎn)，2023年第一季度獲得實際收入,，N3E 2024年量產(chǎn),，N2 2nm 2025年量產(chǎn)。