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半導(dǎo)體前后段制程發(fā)展挑戰(zhàn)眾多材料

2017-11-13
關(guān)鍵詞: KLA-Tencor 晶圓 半導(dǎo)體 制程

先進制程發(fā)展雖然面臨諸多挑戰(zhàn),,但在產(chǎn)業(yè)鏈上下游攜手合作、眾志成城的情況下,卻是關(guān)關(guān)難過關(guān)關(guān)過。設(shè)備與材料商的不斷創(chuàng)新,是讓半導(dǎo)體制造能夠不斷向物理極限發(fā)動挑戰(zhàn)最重要的奧援,。

雖然摩爾定律(Moore's Law)已經(jīng)失效的說法在半導(dǎo)體業(yè)界不斷被提及,但在本屆SEMICON Taiwan展上,完全感覺不到制程微縮的腳步即將告終的氛圍,。從10納米一路向下到7納米、甚至3納米,,都是各家參展廠商所聚焦的重點,。

另一方面,由于缺電,、缺工的陰影持續(xù)壟罩臺灣科技產(chǎn)業(yè),,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)更是首當其沖,因此廠房電力系統(tǒng)、自動化方案業(yè)者,,也選在SEMICON Taiwan期間推出對應(yīng)的解決方案,。

KLA-Tencor新系統(tǒng)鎖定多重曝光/EUV需求

科磊(KLA-Tencor)針對7納米以下的邏輯和尖端記憶體設(shè)計節(jié)點,推出了五款顯影成型控制系統(tǒng),,期盼幫助晶片制造商實現(xiàn)多重曝光技術(shù)和EUV微影所需的嚴格制程公差,。新系統(tǒng)拓展了KLA-Tencor的多元化量測、檢測和資料分析的系統(tǒng)組合,,能對制程變化進行識別和糾正,。該五款系統(tǒng)包含ATL、SpectraFilm F1,、Teron 640e,、LMS IPRO7和5D Analyzer X1。

KLA-Tencor全球產(chǎn)品部執(zhí)行副總裁Ahmad Khan表示,,對于7納米和5納米制程節(jié)點,,晶片制造商在生產(chǎn)中找到疊對誤差、線寬尺寸不均和熱點的根本起因變得越來越困難,。除了曝光機的校正之外,,客戶也在了解不同的光罩和晶圓制程步驟變化會如何影響顯影成型。

透過全制造廠范圍的開放式量測和檢測資料,,IC工程師可以對制程問題迅速定位,,并且在其發(fā)生的位置直接進行管理。KLA-Tencor推出的五款系統(tǒng),,期待能為客戶降低由每個晶圓,、光罩和制程步驟所導(dǎo)致的顯影成型誤差。

在IC制造廠內(nèi),,ATL疊對量測系統(tǒng)和SpectraFilm F1薄膜量測系統(tǒng)可以針對FinFET,、DRAM、3D NAND和其他復(fù)雜元件結(jié)構(gòu)的制造提供制程表征分析和偏移監(jiān)控,。Teron 640e光罩檢測產(chǎn)品系列和LMS IPRO7光罩疊對位準量測系統(tǒng),,可以協(xié)助光罩廠開發(fā)和鑒定EUV和先進的光學(xué)光罩。5DAnalyzer X1高級資料分析系統(tǒng)提供開放架構(gòu)的基礎(chǔ),,以支持晶圓廠量身定制的分析和實時制程控制的應(yīng)用,。

Merck在臺增設(shè)IC材料中心

全球生醫(yī)及特用材料大廠默克(Merck)則搶在SEMICON Taiwan展前宣布其位于高雄的亞洲首座積體電路(IC)材料應(yīng)用研發(fā)中心將正式啟用,初期投資約1億元新臺幣,,提供前端原子層沉積(ALD)/化學(xué)氣相沉積(CVD)之材料與制程開發(fā),、半導(dǎo)體封裝研發(fā)與錯誤分析等服務(wù),以期協(xié)助在地與亞州半導(dǎo)體業(yè)者縮短研發(fā)時間,,盡速投入IC先進制程,。

根據(jù)Gartner發(fā)布的「2026年半導(dǎo)體科技報告」,5納米制程成本將是目前16/14納米制程的2.5~3倍,微影制程到10納米以下已越來越難具備成本效益,。有鑒于此,,透過系統(tǒng)級封裝或3D封裝等解決方案持續(xù)微縮、降低成本,,逐漸成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)趨勢,,促使晶片制造/封裝相關(guān)IC材料市場向上成長。Merck資深副總裁Rico Wiedenbruch表示,,在2015至2020年間,,晶片制造材料與封裝材料市場可望出現(xiàn)3%~4%左右的年復(fù)合成長率,銷售金額則可分別達到300億與240億美元,。

Merck臺灣區(qū)董事長謝志宏表示,,臺灣在地緣上接近亞洲中心,又是Merck在全球最重要的市場之一,,因而促使該公司決定在臺擴增IC材料應(yīng)用中心,,借此貼近市場與客戶。再者,,臺灣半導(dǎo)體/面板產(chǎn)業(yè)鏈完整,,人才資源充裕,加上政府,、業(yè)界對矽智財?shù)母裢庾鹬嘏c保護,,更是外商得以放心在臺投資的主要考量。

此研發(fā)中心共設(shè)有沉積材料應(yīng)用實驗室,,以及半導(dǎo)體封裝應(yīng)用研發(fā)實驗室,。前者因應(yīng)半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)與時俱增的復(fù)雜程度,側(cè)重于前端ALD/CVD制程研發(fā),,設(shè)計/鑒定新型半導(dǎo)體薄膜前驅(qū)物,,并進一步以先進設(shè)備做應(yīng)用評估;后者則側(cè)重于先進封裝方面,,包含環(huán)保/高導(dǎo)熱/高性能燒結(jié)材料開發(fā),,協(xié)助業(yè)者加速開發(fā)流程、進行錯誤分析,,提供優(yōu)質(zhì)的客制化技術(shù)服務(wù),。

前后段制程不斷進化半導(dǎo)體材料與時俱進

另一家半導(dǎo)體材料商Brewer Science也在SEMICON Taiwan期間向臺灣半導(dǎo)體業(yè)界介紹其針對前后段半導(dǎo)體新制程所研發(fā)的新材料,。

Brewer Science副技術(shù)長James Lamb(圖1)表示,,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一方面需要透過先進節(jié)點邏輯和記憶體才能提供更高的運算能力,同時也需要利用先進封裝技術(shù)來實現(xiàn)異質(zhì)整合,。有鑒于此,,該公司已投資開發(fā)專門材料和制程來滿足前后段制程的新需求,包括針對扇出型封裝(FO)和3D IC制程的健全暫時性貼合/剝離材料和制程的組合,到用于先進微影制程的EUV和DSA材料,。

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圖1 Brewer Science副技術(shù)長James Lamb指出,,半導(dǎo)體前后段制程不斷進步,對材料的特性需求也跟著越來越高,。

臺灣的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)致力于先進節(jié)點微影,,以及先進晶圓級封裝的高量制造(HVM)。此外,,這個地區(qū)擁有強大的顯示器產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)設(shè)施,,因此具備執(zhí)行面板級進階封裝制程的優(yōu)勢。

有關(guān)晶圓和面板級FO架構(gòu)的討論,,皆著重于系統(tǒng)級封裝和異質(zhì)整合應(yīng)用的封裝領(lǐng)域,。焦點在于已應(yīng)用在生產(chǎn)上將近9年的晶片優(yōu)先方法,以及目標為更先進架構(gòu)的RDL優(yōu)先方法,。兩者都必須在相同封裝中容納更多晶粒,,但這會使得壓力增加并造成晶圓彎曲。因此在整個制程中需要暫時性載體支援,。此外,,雖然專業(yè)封裝廠還沒有正式將FO面板級制程(FO-PLP)推向量產(chǎn),但每家業(yè)者都在朝這個方向努力,,因此Brewer Science也已為此做好準備,。

這些新的封裝制程勢必會使用到雷射分離剝離法。該方法適用于RDL優(yōu)先和FO-PLP 的玻璃基板支援制程,。Brewer Science的最新一代剝離材料就是專為雷射分離而設(shè)計,。

至于在前段制程方面,現(xiàn)在最先進的制程節(jié)點為10納米,,而且在不久的將來會開始導(dǎo)入極紫外線(EUV)微影制程,。Lamb認為,采用EUV已經(jīng)是擋不住的趨勢,,因此該公司將在與EUV相輔相成的定向自組裝(DSA)材料上大力投資,。

讓材料自行形成微影圖案的DSA是輔助EUV的重要技術(shù)。DSA最適合具有多重,、重復(fù),、普通精細間距特征的裝置,無需額外光罩即可達到30納米特征尺寸,。EUV可用于在晶圓上繪制解析度較低的特征,,并制作后續(xù)DSA沉積的間隔物。

Lamb表示,,雖然仍在發(fā)展階段,,不過DSA的目標是在兩年內(nèi)準備好進行生產(chǎn),。結(jié)合DSA和EUV共同為IDM和代工提供相輔相成的優(yōu)勢,以提升其制造能力,。臺灣制造商正引領(lǐng)未來,,努力不斷地擴展融合DSA和EUV的技術(shù)。

半導(dǎo)體線寬持續(xù)微縮污染物過濾考驗大

半導(dǎo)體制程不斷微縮,,讓新一代晶片的性能,、功耗得以有更好的表現(xiàn),但制程微縮卻也使得制程中的污染物控制受到更嚴格的考驗,。對此,,特用材料供應(yīng)商英特格(Entegris)近期發(fā)表Oktolex薄膜技術(shù),其針對各種化學(xué)品的需求,,強化各種薄膜原本的攔截機制,,進而使該薄膜技術(shù)得以過濾光化學(xué)污染物,目前主要市場鎖定在邏輯,、DRAM和3D NAND裝置的ArF,、KrF和EUV光微影技術(shù)。

英特格臺灣區(qū)總經(jīng)理謝俊安(圖2)表示,,隨著納米制程的精進與EUV的導(dǎo)入,,讓半導(dǎo)體的制程變得更為復(fù)雜,在控制污染粒子(Particles)方面,,也顯得更為困難,。當半導(dǎo)體制程線寬變得越來越小,原本不會對制程造成影響的污染粒子,,如今也必須設(shè)法控制,,才能確保半導(dǎo)體制造的良率。舉例來說,,過去英特格僅須控制20納米大小的污染粒子,,但在制程越做越小的情況下,現(xiàn)在英特格必須設(shè)法控制10納米,,甚至更細小的污染粒子,,因此相對應(yīng)的技術(shù)都必須隨之提升。

有鑒于此,,英特格近日在SEMICON Taiwan展會上,,發(fā)表創(chuàng)新的Oktolex薄膜技術(shù),這項技術(shù)可應(yīng)用在先進的使用點光微影技術(shù)上,。Oktolex革命性的薄膜可針對各種化學(xué)品的需求,,強化各種薄膜原本的攔截機制,以過濾光化學(xué)污染物,。Oktolex 薄膜將薄膜特性,,與特定污染物的吸收機制作匹配,進而可將薄膜的過濾效能最佳化,,且不會與化學(xué)品的組成產(chǎn)生不良反應(yīng),。

因應(yīng)缺電/缺工危機儲能/自動化廠商獻策

除了先進制程的挑戰(zhàn)外,影響臺灣整體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的缺電,、缺工問題,,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)也無法置身事外。有鑒于此,,伊頓(Eaton)與搬運機器人業(yè)者賽思托(SESTO Robotics)也在本屆SEMICON Taiwan展中,,展示為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)打造的解決方案。

伊頓在本屆展會中主打雙向并網(wǎng)儲能應(yīng)用xStorage,、智能電力管理藍云計畫,,以及不斷電系統(tǒng)搭配鋰鐵電池的應(yīng)用等。

伊頓臺灣區(qū)總經(jīng)理宮鴻華表示,,前陣子和平電廠鐵塔倒塌,、815停電事件都暴露出臺灣電力網(wǎng)路的脆弱性。此外,,夏季高溫不斷,,用電量跟著飆高,備轉(zhuǎn)容量率僅剩3%上下,,導(dǎo)致臺灣時時處于缺電危機當中,。如何具備穩(wěn)定且安全的電力系統(tǒng)成為企業(yè)經(jīng)營的重要課題。伊頓藍云計畫不僅具備UPS備用電力的功能,,亦可實現(xiàn)能源儲存,、雙向與多向供電調(diào)控,協(xié)助企業(yè)建構(gòu)完整的電力能源系統(tǒng),,并利用多電源調(diào)控技術(shù)達到智能電力管理,,達到最高效率與最佳經(jīng)濟效益。

此外,,針對伊頓的主力產(chǎn)品不斷電系統(tǒng)UPS伊頓也持續(xù)研發(fā)采用更小,、更輕、更環(huán)保的鋰鐵電池于UPS內(nèi),,不僅具備充電更快速的優(yōu)勢,,也大幅降低企業(yè)成本。

宮鴻華認為,,鋰鐵電池在各項規(guī)格特性方面均明顯優(yōu)于鉛酸電池,,但過去成本太過高昂,難以大規(guī)模應(yīng)用,。不過,,鋰鐵電池最為人

詬病的成本問題,,將在今明兩年獲得解決。幾家臺灣半導(dǎo)體大廠已經(jīng)開始展開鋰鐵電池系統(tǒng)導(dǎo)入計畫,,鉛酸電池系統(tǒng)將隨著時間逐漸退居二線,。

企業(yè)正面臨能源轉(zhuǎn)型所帶來的缺電危機,伊頓將持續(xù)提供高效率且可靠的電力能源解決方案,,協(xié)助企業(yè)面對未來的電力挑戰(zhàn),。

除了缺電外,缺工問題也考驗著臺灣的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),。賽思托執(zhí)行長梁漢清(圖3)指出,,晶圓產(chǎn)線的作業(yè)員其實是一個高度體力勞動,而且相當單調(diào)又缺乏發(fā)展性工作,。

以晶圓搬運為例,,雖然先進12吋晶圓廠普遍設(shè)有天車運輸軌道,大多數(shù)晶圓輸送都不需要靠人力,,但如果是8吋廠或比較舊的廠房,,還是要依靠人力來輸送晶圓。另一方面,,天車運輸?shù)慕ㄖ贸杀靖甙?,而且缺乏彈性,若采用天車運輸,,則產(chǎn)線機臺的位置就必須跟著固定下來,,不管是要改線或擴充產(chǎn)能,都相當麻煩,。

在天車運輸無法完全取代人力作業(yè)的情況下,,很多半導(dǎo)體廠,特別是后段封測廠,,還是要依靠作業(yè)員推著晶圓推車,,在產(chǎn)線內(nèi)各站到處上下料。這是一個很辛苦的工作,,一個作業(yè)員一天可能要步行20公里以上,,而且工作單調(diào)又沒有發(fā)展前景,因此很多年輕人不愿從事這個工作,。

對專精于無人搬運車(AGV)設(shè)計的賽思托而言,,這是一個很好的發(fā)展機會。目前該公司已經(jīng)推出針對晶圓輸送需求設(shè)計的解決方案,。該方案是由無人搬運車加上山葉(Yamaha)的機器手臂所構(gòu)成,,手臂最大荷重為20公斤。該AGV不僅可滿足X,、Y,、Z軸震動均低于0.5G的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)要求,,且透過雷射測距、機器皮膚等技術(shù)輔助,,可以和人類作業(yè)員并肩工作而不會有安全上的疑慮,,也不會碰撞到產(chǎn)線上的其他機臺。

目前該搬運車已經(jīng)獲得英飛凌(Infineon)等多家國際半導(dǎo)體大廠采用,,并且在實際導(dǎo)入的過程中證明其可靠度與耐用性,。因此,,梁漢清認為,,在同樣面臨缺工問題的臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),這款解決方案也有很大的應(yīng)用發(fā)揮空間,。


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