Siemens 業(yè)務(wù)部門(mén) Mentor 今天宣布,，已與三星電子合作推出各種適用于三星 8LPP 工藝技術(shù)的 Mentor 設(shè)計(jì)和驗(yàn)證工具及流程,。在 EUV 光刻時(shí)代到來(lái)之前,，最具競(jìng)爭(zhēng)力的擴(kuò)展優(yōu)勢(shì)將源于 8LPP,。相較于 10LPP 工藝，8LPP 的性能實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步提升,。針對(duì) 8LPP 推出的工具包括 Calibre 物理驗(yàn)證套件,、Mentor Analog FastSPICE (AFS) 定制和模擬/混合信號(hào) (AMS) 電路驗(yàn)證平臺(tái),，以及 Nitro-SoC 布局和布線(xiàn) (P&R) 電子設(shè)計(jì)平臺(tái),。這些 Mentor 解決方案可用于三星 8LPP 工藝技術(shù)生產(chǎn)流片的設(shè)計(jì)和 Sign-off。

　　此外,，Calibre 套件的核心模塊現(xiàn)可支持使用 EUV 光刻的 7LPP 工藝技術(shù),，其中包括 Calibre nmDRC、Calibre nmLVS,、Calibre xACT 和 Calibre PERC 軟件,。這些 Calibre 設(shè)計(jì)套件可用于三星 7LPP 工藝技術(shù)的初始測(cè)試芯片和知識(shí)產(chǎn)權(quán) (IP) 創(chuàng)建。

　　“三星代工廠(chǎng)將一如既往地提供業(yè)界最具競(jìng)爭(zhēng)力的工藝技術(shù),。我們與 Mentor 之間的協(xié)作可確保推出合格的工具,，從而讓我們的共同客戶(hù)能夠充分利用三星代工廠(chǎng)的工藝產(chǎn)品，并開(kāi)發(fā)出卓越的設(shè)計(jì),，”三星電子代工廠(chǎng)設(shè)計(jì)部門(mén)高級(jí)副總裁 Jaehong Park 說(shuō)道,。“Mentor 推出適用于 8LPP 和 7LPP 的工具,，是我們雙方長(zhǎng)期合作關(guān)系的有力佐證,，并且我們將繼續(xù)攜手共進(jìn)，力爭(zhēng)讓設(shè)計(jì)人員可以胸有成竹地實(shí)施,、驗(yàn)證,、測(cè)試和交付設(shè)計(jì)?！?/p>

　　業(yè)界領(lǐng)先的 Calibre 平臺(tái)中已涵蓋多種適用于 8LPP 工藝技術(shù)的工具,，三星也已經(jīng)開(kāi)始啟用這些工具，以此確保設(shè)計(jì)人員能夠快速?gòu)娜莸爻晒ν瓿闪髌?/p>

　　·Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具可幫助設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)驗(yàn)證和優(yōu)化其設(shè)計(jì),，以滿(mǎn)足三星 8LPP 工藝要求,。這兩種工具提供了準(zhǔn)確的創(chuàng)新型物理和電路驗(yàn)證功能，可應(yīng)對(duì)日益增長(zhǎng)的版圖復(fù)雜性和嚴(yán)苛的先進(jìn)節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)性能要求,。

　　·Calibre Pattern Matching 功能可以讓設(shè)計(jì)人員應(yīng)用各種可視性幾何圖形分析,，快速準(zhǔn)確地執(zhí)行復(fù)雜的驗(yàn)證任務(wù)，例如跨多個(gè)實(shí)例且對(duì)配置有精確要求的驗(yàn)證,，以及光刻熱點(diǎn)識(shí)別,。

　　·Calibre xACT 平臺(tái)提供了無(wú)可匹敵的寄生參數(shù)提取精度和性能，可自動(dòng)使用集成的場(chǎng)解算器來(lái)計(jì)算（以阿托法拉級(jí)的精度）復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)的寄生參數(shù)，同時(shí)采取可高度擴(kuò)展的并行處理方法為包含數(shù)百萬(wàn)實(shí)例的設(shè)計(jì)優(yōu)化性能,。

　　·Calibre PERC 可靠性平臺(tái)采用獨(dú)特集成的方法對(duì)物理版圖和網(wǎng)表進(jìn)行分析,，從而自動(dòng)進(jìn)行復(fù)雜的可靠性檢查。

　　·Calibre YieldEnhancer 產(chǎn)品,，特別是其 SmartFill 和工程變更單 (ECO)/Timing-Aware Fill 功能,，可幫助設(shè)計(jì)人員通過(guò)知識(shí)產(chǎn)權(quán) (IP)、模塊和全芯片之間的多項(xiàng)設(shè)計(jì)變更來(lái)控制設(shè)計(jì)平坦度,，從而確保設(shè)計(jì)能夠滿(mǎn)足制造工藝平坦化要求,，并符合流片排程。它還可以使設(shè)計(jì)人員能夠應(yīng)用版圖布局的增強(qiáng)功能（例如通孔優(yōu)化）,，進(jìn)而提高制造的成功率,。

　　·Calibre LFD? 工具，基于 Mentor 的工藝窗口建模,、掩膜合成,、光學(xué)鄰近效應(yīng)修正 (OPC) 和分辨率增強(qiáng) (RET) 的生產(chǎn)部署解決方案，可準(zhǔn)確地對(duì)光刻工藝的影響進(jìn)行建模,，從而預(yù)測(cè)實(shí)際“已制造好的”版圖尺寸,，識(shí)別潛在光刻問(wèn)題，以及幫助設(shè)計(jì)人員優(yōu)化良率和產(chǎn)品可靠性,。

　　·由于設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)可同時(shí)處理多個(gè)可制造性設(shè)計(jì) (DFM) 方案,，因此他們可使用配有 Calibre YieldAnalyzer 工具的三星 DFM 評(píng)分和分析解決方案來(lái)簡(jiǎn)化折衷決策流程，例如通孔冗余檢查,。此外,，三星還支持整合 Calibre Pattern Matching 解決方案的良率減損圖形識(shí)別和修正，以便提供從制造成果到客戶(hù)設(shè)計(jì)流程的快速反饋,。為了進(jìn)一步確?？蛻?hù)能夠快速找到 DFM 問(wèn)題并予以解決，Mentor 和三星還宣布推出 Calibre DFM Explorer 功能,。

　　為了讓片上系統(tǒng) (SoC) 設(shè)計(jì)人員能夠胸有成竹地完成電路驗(yàn)證,、物理實(shí)現(xiàn)和 IC 測(cè)試，三星在其 8LPP 設(shè)備模型和設(shè)計(jì)套件中啟用了 AFS 平臺(tái),。我們的共同客戶(hù)依靠 AFS 平臺(tái),，在驗(yàn)證模擬、射頻,、混合信號(hào),、內(nèi)存和定制數(shù)字電路上，提供比傳統(tǒng) SPICE 仿真器速度更快的納米級(jí) SPICE 精度驗(yàn)證,。

　　Nitro-SoC P&R 系統(tǒng)支持在三星 8LPP 工藝技術(shù)中進(jìn)行網(wǎng)表到 GDSII 的物理實(shí)現(xiàn),。這個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)支持各種創(chuàng)新型技術(shù)，包括多重曝光布線(xiàn)層的高級(jí)設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC) 規(guī)避、收斂時(shí)序的掩膜和層優(yōu)化,，以及智能庫(kù)管腳接入功能,，因此可獲得優(yōu)化的功率/性能/占位面積 (PPA) 結(jié)果?？蛻?hù)能夠獲取各種功能,，包括基于多拐角多模式 (MCMM) 的占位面積優(yōu)化、基于多 VDD 的全面低功率流程,、與 Calibre Sign-off 的本機(jī)集成,，以及可縮短周轉(zhuǎn)時(shí)間的全面并行化。

　　“我們與三星代工廠(chǎng)的合作并不僅僅是為了提供符合最低要求的工具,，”Mentor Design-to-Silicon 事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理 Joe Sawicki 說(shuō)道,。“我們聯(lián)合推出的解決方案還可讓我們的共同客戶(hù)充分利用三星的工藝產(chǎn)品,，以在初始流片和硅生產(chǎn)兩方面獲得成功,，從而在無(wú)晶圓廠(chǎng)公司和三星代工廠(chǎng)之間架起至關(guān)重要的連接橋梁,?！?/p>