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中國(guó)12寸晶圓廠大爆發(fā) FinFET與FD-SOI兩大陣營(yíng)如何站隊(duì)

2017-02-20
關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體 晶圓 微處理器 DRAM

根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體協(xié)會(huì)(SEMI)所發(fā)布的近兩年全球晶圓廠預(yù)測(cè)報(bào)告顯示,,2016至2017年間,綜合8寸,、12寸廠來(lái)看,,確定新建的晶圓廠就有19座,,其中大陸就占了10座,。另有分析報(bào)告顯示,,全球晶圓產(chǎn)能到2020年都將延續(xù)以12寸晶圓稱霸的態(tài)勢(shì)。

在這些晶圓廠中,,大多數(shù)12寸廠將繼續(xù)僅限于生產(chǎn)大量、商品類型的元件,,例如DRAM與快閃記憶體,、影像感測(cè)器,、電源管理元件,還有IC尺寸較大,、復(fù)雜的邏輯與微處理器,。而有的晶圓代工廠會(huì)結(jié)合不同來(lái)源的訂單來(lái)填滿12寸晶圓廠產(chǎn)能。

讓我們?cè)賹⒛抗饫氐轿覈?guó),,現(xiàn)在我國(guó)國(guó)內(nèi)現(xiàn)存主流晶圓廠共有22座,,其中8英寸廠13座,12英寸廠9座,,正在興建中的晶圓廠也超過(guò)10座,,包括3座8英寸廠和10座12英寸廠。更是伴隨著“中國(guó)制造”的影響持續(xù)擴(kuò)散,,全球半導(dǎo)體大廠均擴(kuò)大在中國(guó)布局,,擴(kuò)大晶圓廠的建設(shè)生產(chǎn)。

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饕餮級(jí)食客都是誰(shuí),?

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英特爾,、三星與SK海力士大廠早已在大陸插旗,并將主力放在存儲(chǔ)器產(chǎn)業(yè),,特別的是英特爾大連12寸晶圓廠在2010年完工,。當(dāng)時(shí),廠房規(guī)劃用以生產(chǎn)65納米制程CPU,,但在產(chǎn)能利用率低落下,,2015年10月英特爾宣布與大連市政府合作,投資55億美元轉(zhuǎn)型生產(chǎn)3D-NAND Flash并在今年7月底重新宣告投產(chǎn),。大陸本土廠商現(xiàn)有12寸廠的為中芯國(guó)際與華力微,,兩者分別在上海都有廠房,中芯在北京還有B1,、B2兩座晶圓廠,,其中B2廠制程已至28納米。

格羅方德則攜手成都建立全新的合資晶圓制造廠,,合作雙方計(jì)劃建設(shè)12英寸晶圓廠,,制定了雙路線發(fā)展戰(zhàn)略——在14納米和7納米的研發(fā)投資之外,還啟動(dòng)了FD-SOI的路線圖來(lái)滿足市場(chǎng)要求,。不僅配合中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)的強(qiáng)勁增長(zhǎng)趨勢(shì),,同時(shí)也將促進(jìn)全球客戶對(duì) 22FDX 先進(jìn)工藝的額外需求。

而稱大陸最先進(jìn)制程晶圓廠的中芯,,也發(fā)布了動(dòng)土消息,,將在上海興建新晶圓廠,初期就瞄準(zhǔn)14納米制程,,且產(chǎn)能規(guī)劃涵蓋10/7納米,,估計(jì)2017年底完工,、2018年正式投產(chǎn),被視為挑戰(zhàn)即將來(lái)大陸發(fā)展的的晶圓代工龍頭臺(tái)積電,。臺(tái)積電正式在今年中宣布到大陸南京獨(dú)資建12寸晶圓廠,,并在7月舉行動(dòng)土,廠房預(yù)計(jì)2018年完工,,也宣告16納米屆時(shí)將在陸量產(chǎn),。

在臺(tái)積電之前,聯(lián)電2014年早已透過(guò)與廈門市政府合資方式,,成立廈門聯(lián)芯率先搶灘大陸在廈門建廠,,廠房預(yù)計(jì)將在今年底就能完工,而完工將近,,聯(lián)電也開啟了另一項(xiàng)與大陸官方的合作計(jì)劃,,宣布與福建晉華集成電路簽署技術(shù)合作協(xié)定,協(xié)助晉華集成開發(fā)DRAM相關(guān)制程技術(shù),,在泉州市建立12寸晶圓廠,,從事利基型DRAM代工,早在臺(tái)積電之前,,走“聯(lián)電模式”在大陸建廠的還有力晶,,力晶與合肥市政府合作,成立晶合集成在當(dāng)?shù)卮蛟?2寸晶圓廠,,從事最高90納米面板驅(qū)動(dòng)代工服務(wù),。

長(zhǎng)江存儲(chǔ)將以武漢新芯現(xiàn)有的12英寸先進(jìn)集成電路技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)制造能力為基礎(chǔ),繼續(xù)拓展武漢新芯目前的物聯(lián)網(wǎng)業(yè)務(wù)布局,,并著力發(fā)展大規(guī)模存儲(chǔ)器,。

士蘭集成作為國(guó)內(nèi)第一條民營(yíng)8寸線落戶杭州下沙,淮安德科瑪則是圖像傳感器芯片項(xiàng)目,,將填補(bǔ)我國(guó)自主產(chǎn)權(quán)CIS的空白,。

FinFET與FD-SOI陣營(yíng)都是怎么站隊(duì)的?

隨著現(xiàn)代科技的不斷發(fā)展,,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已經(jīng)逐漸成為一個(gè)國(guó)家綜合實(shí)力的重要標(biāo)志,,芯片產(chǎn)業(yè)每1 美元的產(chǎn)值能夠帶動(dòng)100 美元的GDP。其中晶圓制造作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的重中之重,,占全球整個(gè)半導(dǎo)體市場(chǎng)比重達(dá)58.21%,,因此芯片制造環(huán)節(jié)是制約或推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要因素。FinFET與FD-SOI兩種技術(shù)在不斷搶奪半導(dǎo)體市場(chǎng),。

就未來(lái)汽車市場(chǎng)以及IOT市場(chǎng)來(lái)說(shuō),,只是汽車半導(dǎo)體就有410億美元的市場(chǎng),IOT方面與半導(dǎo)體相關(guān)市場(chǎng)份額也占到了420億美元,。由此可見半導(dǎo)體晶圓的需求量甚大,。而只是這兩方面市場(chǎng)就用到了FinFET與FD-SOI兩種技術(shù),。舉個(gè)例子來(lái)講,格羅方德的14FinFET主要是應(yīng)用在高端的手機(jī)客戶端,、電腦圖像應(yīng)用,而22FDX主要是在一些移動(dòng)設(shè)備的應(yīng)用,。那么這兩種技術(shù)最根本的差別在哪里,?

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FinFET結(jié)構(gòu)看起來(lái)像魚鰭,所以也被稱為鰭型結(jié)構(gòu),,其最大的優(yōu)點(diǎn)是Gate三面環(huán)繞D、S兩極之間的溝道(通道),實(shí)際的溝道寬度急劇地變寬,,溝道的導(dǎo)通電阻急劇地降低,,流過(guò)電流的能力大大增強(qiáng);同時(shí)也極大地減少了漏電流的產(chǎn)生,這樣就可以和以前一樣繼續(xù)進(jìn)一步減小柵長(zhǎng),。

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FD-SOI(全耗盡絕緣層上硅)技術(shù)仍然采用平面型晶體管,,其硅薄膜可自然地限定源漏結(jié)深,同時(shí)限定了源漏結(jié)的耗盡區(qū),,從而可改善DIBL(漏致勢(shì)壘降低)等短溝道效應(yīng),,改善器件的亞閾特性,降低電路的靜態(tài)功耗,。此外,,F(xiàn)D-SOI晶體管無(wú)需溝道摻雜,可以避免RDF(隨機(jī)摻雜漲落)等效應(yīng),,從而保持穩(wěn)定的閾值電壓,,同時(shí)還可以避免因摻雜而引起的遷移率退化。

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體偏壓技術(shù)(body-bias)是FD-SOI技術(shù)所獨(dú)有的特點(diǎn),,也是讓該技術(shù)最受關(guān)注的特點(diǎn),。通過(guò)把硅做得極薄,讓它可以全部耗盡,,所以不會(huì)再漏電流,。如果再將氧化硅層做的非常薄,同時(shí)放入偏置裝置(bias),,就可以調(diào)節(jié)控制這個(gè)晶體管,。如果放入的是正偏壓,可以實(shí)現(xiàn)性能快速增強(qiáng);如果放入的是負(fù)偏壓,,我們實(shí)際上可以關(guān)掉該裝置,。讓它實(shí)現(xiàn)很低的漏電流,大概是1pA/micron的水平,。

先進(jìn)邏輯工藝自28納米節(jié)點(diǎn)分野之后,,F(xiàn)inFET與FD-SOI工藝的爭(zhēng)論就開始出現(xiàn),。兩大工藝均家支持者,英特爾與臺(tái)積電是FinFET路線的堅(jiān)定支持者,,二者目前均無(wú)發(fā)展FD-SOI工藝的計(jì)劃,。

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目前全球四大半導(dǎo)體代工廠中的兩家——三星及格羅方德——已經(jīng)宣布計(jì)劃量產(chǎn)并采用FD-SOI晶圓進(jìn)行多項(xiàng)試產(chǎn)也是FD-SOI工藝的堅(jiān)定支持者。全球有三家位于三大洲的公司能夠供應(yīng)FD-SOI晶圓,,包括法國(guó)Soitec,、日本信越半導(dǎo)體(SHE)、美國(guó)SunEdison,。這三家公司均采用了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的SOI晶園制造技術(shù),。

法國(guó)Soitec已實(shí)現(xiàn)FD-SOI晶園的高良率成熟量產(chǎn),其300mm晶圓廠能夠支持28nm,、22nm及更為先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)上大規(guī)模采用FD-SOI技術(shù),。

Globalfoundries的成都新廠,發(fā)展22FDX技術(shù),。GF 22FDX市場(chǎng)主要針對(duì)于低端智能手機(jī),、無(wú)線物聯(lián)網(wǎng)、自動(dòng)駕駛汽車,、便攜式相機(jī),。與此同時(shí),為了緊跟22FDX的腳步GF也會(huì)進(jìn)行12FDX的研發(fā),。12FDX晶圓將會(huì)比22FDX小35%,,但是它的性能卻可以做到25%的更佳。12FDX,、20FDX加之RF-SOI和SiGe技術(shù)的結(jié)合將會(huì)更好地應(yīng)對(duì)未來(lái)移動(dòng)計(jì)算的發(fā)展,。

除了以上國(guó)外晶圓巨頭們發(fā)展FD-SOI技術(shù),還有一些中國(guó)企業(yè)正默默地將半導(dǎo)體制造技術(shù)發(fā)展聚焦于FD-SOI制程:

上海新傲科技(Simgui)在2015年秋天開始量產(chǎn)該公司首批8吋SOI晶圓片,,采用法國(guó)業(yè)者Soitec的SmartCut制程技術(shù),。

中國(guó)的上海硅產(chǎn)業(yè)投資有限公司在去年收購(gòu)14.5%的Soitec股權(quán)。NSIG與中國(guó)的大基金有所不同,,后者是一個(gè)在2016年初由大基金所成立的投資平臺(tái),,其任務(wù)是建立半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)生態(tài)系統(tǒng),聚焦于超越摩爾定律,。

上海華力微電子的高層前往美國(guó)參加SEMI主辦之產(chǎn)業(yè)策略高峰會(huì)時(shí),,分享了一張投影片顯示FD-SOI是該公司投資額達(dá)59億美元之Fab2計(jì)劃的一部分。

不過(guò)SOI硅片一直無(wú)法壓低成本,,目前8英寸的SOI硅片每片要300-400美元,,而通常的硅片每片才30-40美元,相差十倍。因此估計(jì)SOI代工硅片價(jià)格應(yīng)該在每片1000美元左右,,而中國(guó)的代工廠,,8英寸硅片平均代工價(jià)格在每片約400美元。

目前中國(guó)的FD-SOI技術(shù)尚沒有實(shí)現(xiàn)規(guī)?;慨a(chǎn)階段,,IC設(shè)計(jì)公司可能尚處在多任務(wù)硅片MPW的設(shè)計(jì)驗(yàn)證階段。對(duì)于大陸SOI產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展需要政府部門牽頭,,制定規(guī)劃,,并引導(dǎo)與資金支持,目前階段不可能單靠單一廠家解決所有問(wèn)題,。

中國(guó)設(shè)計(jì)公司能否參與到FD-SOI工藝發(fā)展中去,將是FD-SOI工藝能否成功的關(guān)鍵,。目前國(guó)際客戶數(shù)量不夠,,無(wú)法支撐FD-SOI工藝成熟,而中國(guó)半導(dǎo)體制造工藝原本就落后,,如果從國(guó)家戰(zhàn)略層面推動(dòng)國(guó)內(nèi)設(shè)計(jì)公司采用FD-SOI工藝,,那么將是FD-SOI工藝的極大機(jī)遇。


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