《電子技術(shù)應(yīng)用》
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Tanner:基于PC的IC設(shè)計工具降低MEMS設(shè)計門檻
Tanner公司MEMS產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)理 Amish Desai
摘要: 鑒于MEMS工藝源自光刻微電子工藝,,所以人們很自然會考慮用IC設(shè)計工具來創(chuàng)建MEMS器件的掩膜,。然而,,IC設(shè)計與MEMS設(shè)計之間存在著根本的區(qū)別,,從版圖特性、驗證或仿真類型,,到最重要的構(gòu)造問題,。
關(guān)鍵詞: IC設(shè)計軟件 MEMS IC PC Tanner
Abstract:
Key words :

      鑒于MEMS工藝源自光刻微電子icle/index.aspx?id=22201">工藝,所以人們很自然會考慮用IC設(shè)計工具來創(chuàng)建MEMS器件的掩膜,。然而,,IC設(shè)計與MEMS設(shè)計之間存在著根本的區(qū)別,,從版圖特性,、驗證或仿真類型,,到最重要的構(gòu)造問題。

 
    盡管針對MEMS設(shè)計的專用工具套件已經(jīng)面市,,但它們的定價往往超出專注這一增長領(lǐng)域的許多小公司的承受范圍,。作為一種替代解決方案,低成本的,、基于PC的IC工具開始被用于設(shè)計微機(jī)電系統(tǒng)及IC,。
 
  不過,這類軟件的使用者必須認(rèn)識到MEMS設(shè)計的特殊復(fù)雜性,,并評估這些軟件是否能支持他們的產(chǎn)品制造和生產(chǎn)周期,。對于只需要2層掩膜的簡單微流通道 (microfluidic channels),這些軟件也許正好合適,。但對于復(fù)雜的多個掩膜層,,在錯誤檢測、參數(shù)對象構(gòu)建和其它步驟上浪費(fèi)的時間和金錢可能會使最初節(jié)省的成本變得毫無意義,。
 
  當(dāng)MEMS設(shè)計包含大量的曲線對象(curved object)時,,使用IC CAD工具會引發(fā)一些有趣的問題。
 
  曲線對象必須分個構(gòu)建,,并被放置在比IC制造工藝更精細(xì)的柵格上,,以確保機(jī)械的“平滑性”。此外,,IC版圖工具現(xiàn)在必須能處理具有數(shù)千個點(diǎn)的多邊形(它們是因分立的曲線對象而產(chǎn)生的),。
像電磁激勵器這樣的器件需要能繪制精確曲線的版圖工具
 
  管理這類數(shù)據(jù)可能會降低繪圖操作的速度。處理曲線和多邊形需要合適的繪圖指令以及精確的幾何定位工具,,以準(zhǔn)確捕捉中點(diǎn),、半徑和角。在IC領(lǐng)域,,精確定位一個中心點(diǎn)或到某一邏輯門的特定距離可能不像在MEMS設(shè)計中那么重要,。例如,出于機(jī)械或慣性的目的,,MEMS設(shè)計者可能需要把一個電阻精確地放置在某個曲梁單元(curved beam element)的中心,。
 
  此外,IC工具可能無法按參數(shù)化方法構(gòu)造復(fù)雜的曲線或?qū)ο?,從而迫使設(shè)計師輸入詳細(xì)的x,、y坐標(biāo)以繪制出相同器件的近似版本。
 
  低成本的IC工具通常不提供算法到版圖生成(Algorithm-to-layout generation)功能,,所以設(shè)計師可能要使用Matlab或Excel這類的程序來創(chuàng)建x,、y坐標(biāo)點(diǎn),然后再進(jìn)入CAD工具。因此,,這些對象是“靜態(tài)”的,,并且不能被無縫編輯。
 
  不同于成熟的IC制造領(lǐng)域,,MEMS設(shè)計師從非常早的階段起就必須考慮工藝以及器件的機(jī)械物理學(xué)問題,。例如,在MEMS電磁激勵器中,,三維(3-D)線圈通常很難制造,。事實上,MEMS制造工藝的二維(2-D)特性經(jīng)常限制了機(jī)電設(shè)計的最佳優(yōu)化,。因此,,設(shè)計師不得不利用新穎的分層技術(shù)和固定的工藝折衷來實現(xiàn)恰當(dāng)?shù)拇艌觥?/div>
 
  與制造緊密聯(lián)系的是工藝特征和工件(artifact)。設(shè)計師可以直接在CAD工具中對它們做一些修正補(bǔ)償,。MEMS是在版圖設(shè)計階段預(yù)備掩膜數(shù)據(jù)的,。在L-Edit版圖編輯器里,所有關(guān)于復(fù)雜多邊形(如弧,、園及類似圖形)的運(yùn)算都能在一個簡單的步驟中完成,。在一些CAD工具中,這避免了很耗時的對各個對象逐一拷貝,、粘貼和縮放的操作,。
 
  MEMS設(shè)計師應(yīng)特別注意那些大型的多邊形,因為在為了滿足GDSII要求對曲線對象進(jìn)行多邊形化時,,最終產(chǎn)生的多邊形往往具有大量的點(diǎn),。掩膜公司一般只允許一個多邊形有200個點(diǎn)。L-Edit能檢測這些多邊形,,并在GDSII 輸出流上自動把它們分解成更小的多邊形,。
 
  對一家公司而言,MEMS工藝往往是其專有的知識產(chǎn)權(quán),,而且在材料選擇,、層次順序等方面是獨(dú)特的。實際上,,現(xiàn)在只有很少的標(biāo)準(zhǔn)工藝,。因此,這使得版圖驗證很困難,,而那些初創(chuàng)的MEMS公司又很少有能力進(jìn)行自動化的版圖與原理圖對比(LVS)檢查,。
 
  不過,定制的設(shè)計規(guī)則檢查(DRC)工具可以用來發(fā)現(xiàn)MEMS設(shè)計中突然出現(xiàn)的簡單版圖和設(shè)計錯誤,。以往,,低成本IC工具中的DRC功能只能處理45度和直角對象,。目前,在一些更好的工具中,,DRC已能跨越不同的層檢查任何多邊形對象之間的最小間距,。
 
  在MEMS設(shè)計中,對象尺寸在數(shù)量級上的差異會導(dǎo)致一個常犯的錯誤,。兩個對象在顯示屏上看起來可能是連接在一起的,但實際上它們可能是由柵格點(diǎn)隔開的,。這種錯誤若在出帶時沒有發(fā)現(xiàn),,將會造成慘重?fù)p失。能夠處理曲線和多邊形的DRC則可以避免這些錯誤,。
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