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NI PXI矢量網(wǎng)絡分析儀,,幫助 半導體和移動設備制造商降低測試成本

2012-12-04

 

新聞要點

·         NI矢量網(wǎng)絡分析儀(VNA)憑借其快速自動化測量,、功能強大的儀器結構和經(jīng)簡化的測試系統(tǒng)開發(fā)過程,可降低測試成本,。

·         新的NI PXI Express模塊??集成了高級矢量網(wǎng)絡分析儀的測量功能,,形成基于PXI的測試系統(tǒng),其中包括了高精度直流,、高速模擬和數(shù)字測量等應用

 

新聞發(fā)布-2012年12月- 美國國家儀器公司(National Instruments, 簡稱NI)近日發(fā)布了NI NI PXIe-5632 VNA,,它經(jīng)進一步優(yōu)化,可幫助工程師滿足日益復雜的射頻測試要求,,而其成本,、尺寸和使用所需時間僅是傳統(tǒng)堆疊式解決方案的極小一部分。 新的PXIe VNA基于創(chuàng)新型的雙源架構,,頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz,,擁有獨立調(diào)整的源代碼和源接入循環(huán),可適用于眾多不同的測量應用

“NI在射頻和微波儀器上持續(xù)大力投入,,將PXI的應用領域擴大至高端應用,。”NI射頻研究和開發(fā)副總裁Jin Bains表示,,“NI PXIe-5632矢量網(wǎng)絡分析儀功能豐富,,可顯著降低網(wǎng)絡測量成本,尤其是針對那些需要高度精確,、快速和小封裝測量的大批量自動化測試的應用,。”

 

產(chǎn)品特征

·         雙端口,3槽PXI Express矢量網(wǎng)絡分析儀,,頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz ,。

·         功率范圍較寬,為-30dBm到+15 dBm,,調(diào)節(jié)步長為0.01dB,,用于測量有源設備的壓縮和S-參數(shù)。 

·         帶有源接入循環(huán)的雙源架構,,可實現(xiàn)脈沖S參數(shù)測量和擴展源功率范圍,。

·         頻偏功能使用獨立調(diào)整的源代碼,實現(xiàn)對頻率轉(zhuǎn)換器件和熱S-參數(shù)的測量。

·         通過NI LabVIEW,、ANSI C和.NET等行業(yè)領先的編程接口,,可簡化編程并加快測試開發(fā)速度,同時保證射頻測量質(zhì)量,。欲知更多,,請訪問http://www.ni.com/vna/zhs/

 

關于NI

自1976年以來,,美國國家儀器,,簡稱NI(www.ni.com)一直致力于為工程師和科學家提供各種工具來提高效率、加速創(chuàng)新和探索,。NI的圖形化系統(tǒng)設計方法為工程界提供了集成式的軟硬件平臺,有助于加速測量和控制系統(tǒng)的開發(fā),。長期以來,NI一直期望并努力通過自身的技術來改善社會的發(fā)展,,確??蛻簟T工,、供應商及股東獲得成功,。

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